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誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2-CSS-2
誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2-株式会社シンクロン

誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2
株式会社シンクロン



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この製品について

■概要

安定的に誘電体薄膜を形成することが可能。長年培われた当社技術により安定的に誘電体薄膜を形成することができます。SiO2、SiN等の保護膜用途にて幅広く利用可能です。

■主な用途

・電子、電気の制御 ・SAWFilter/BAWFilter/LED/Laser/PCB他

  • シリーズ

    誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2

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誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ドーム スパッタソース スパッタ電源 排気システム
誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2-品番-CSS-2

CSS-2

要見積もり

Φ650mm

マグネトロンスパッタソース (Φ10インチ) ×3

RF電源×3

前室:あらびきポンプ 成膜室:ターボ分子ポンプ1基 + スーパートラップ

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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