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誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS-SLS-18
誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS-株式会社シンクロン

誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS
株式会社シンクロン



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この製品について

■用途

電子、電気の制御

■概要

誘電体多層膜を主とした電子デバイス市場向けに高機能化。当社RAS方式を電子デバイス向けに発展させ、高機能化しました。高周波デバイスの高機能化/高周波化要求に対応しました。

■特徴

・TC (TemperatureCompensated) -SAWに必要な温度補償膜のデファクトスタンダード装置 ・更なる高周波化に向けSMR (SolidMountedResonator) の音響反射器用薄膜形成装置としても期待されています

  • シリーズ

    誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS

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誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS 品番1件

次の条件に該当する商品を1件表示しています

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ドラムサイズ ラジカル源 スパッタ源 排気システム オプション
誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS-品番-SLS-18

SLS-18

要見積もり

Φ1,100mm×230mm

ICP RF電源

Dual cathode・18”×5”Planer cathode

【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14インチTMP×2 マイスナトラップ あらびきユニット

OPM-Z1/Rotary cathode/CH-1ターゲット/Bias機構/SEMI/GEM準拠インターフェース

フィルターに該当する他製品

スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
プラズマ利用有無: 高周波プラズマ型

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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