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誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 RAS取扱企業
株式会社シンクロンカテゴリ
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スパッタリング装置の製品119点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 基板ドラムサイズ | ラジカル源 | スパッタ源 | 排気システム | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RAS-1100C |
要見積もり |
Φ1,100mm×230mm |
ICP RF電源 |
Dual cathode・18”×5”Planer cathode |
【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14インチTMP×2 マイスナトラップ あらびきユニット |
OPM-Z1/Rotary cathode/CH-1ターゲット/CH-1 AFS機構/CH-1 高真空排気系/遊星回転基板ドラム |
スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
機能特性: 高精度成膜型
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
