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ギンブルマルチコーター AT-903取扱企業
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | スパッタリング方式 | ターゲット (別売) | 使用ガス | 到達真空圧 | チャンバー内寸 | 試料ホルダー | 真空排気 | 寸法 | 重量 | 電源 | 揺動角度 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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AT-903 |
要見積もり |
DCマグネトロンスパッタリング、放電電圧:DC 1500V max、放電電流:DC 50mA max |
Cr、ITO、Cu、Ni、Pt、Au、Mo、Wなどオプションとして各種ターゲットを用意 |
Air、Ar |
10-4Pa以下 |
φ100mm (1ヘッド) 、φ127mm (2ヘッド) |
φ50mm (1ヘッド) 、φ85mm (2ヘッド) |
主排気:ターボ分子ポンプ (本体内蔵) 、補助排気:ダイヤフラムポンプ (外置き) |
本体360W×415D×480H (1ヘッド) 、360W×450D×500H (2ヘッド) 、ダイヤフラムポンプ、145W×223D×217H |
本体 約30kg、ダイヤフラムポンプ 4kg |
AC 100V/200V (出荷時選択) 15A |
0~20° |
スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
スパッタ方式: マグネトロンスパッタ型
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800