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スパッタ装置取扱企業
アリオス株式会社カテゴリ
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スパッタリング装置の製品123点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置構成 | 到達圧力 | 膜圧分布 | リークレート | RF電源 ⁄ DC電源 | 基板サイズ | 排気系 | 出力表示モニタ出力 | ガス導入系 | 真空計 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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スパッタ装置 |
要見積もり |
成膜室+交換室 |
成膜室 : 1×10^-5 Pa以下 |
φ50mm 基板内にて ±5%以内 |
1×10^-10 Pa・m^3⁄sec以下 |
0~300W |
φ50mm (標準) |
成膜室 : 200 L⁄sec TMP+スクロールポンプ |
800W アナログメーター付き 0~5V DCリニア出力 |
1系統 |
成膜室 : フルレンジゲージ キャパシタンスゲージ |
スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
スパッタ方式: RFスパッタ型
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800