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スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP－mini取扱企業
株式会社真空デバイスカテゴリ
レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです
5.0
評判がとても良い
2025年6月3日にレビュー
非常に迅速で丁寧なご対応を頂きました。感謝申し上げます。
初回返答までの時間・44.35時間| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | ターゲット | 成膜対象金属 | ターゲット金属寿命(ｔ=10nm時) | 試料ステージ | ターゲット－試料間隔 | 試料サイズ | チャンバーサイズ | タイマー | 排気系 | 安全対策 | 装置サイズ | 電源 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
MSP－mini |
要見積もり |
φ30mmマグネトロン型 |
Au(標準)、オプション(Ag) |
Au(約800回)、Ag(約4000回) |
φ82mm |
25.5mm |
有効径φ30mm、高さ15mm以下 |
内径90mmｘ深さ42mm |
OMRON社製電子タイマー |
外置きRP5ℓ/min |
系統別フューズ付 |
本体W190mm×H183mm×D265mm5kg |
AC100V,10Aアース線付3芯プラグ使用3m |
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スパッタリング装置の製品118点中、注目ランキング上位6点
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スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
