全てのカテゴリ
閲覧履歴
返答率
100.0%
返答時間
41.6時間
・小形卓上型・小スペース装置で、強磁場による多種金属の成膜が可能です。 ・低い電圧でコーティングすると共に試料がフローティング式なので試料損傷を小さく抑えることが出来ます。 ・簡易操作を製品化設計に取り入れ、タッチパネル操作、レシピ機能、シーケンサー制御によるフルオートスパッタ成膜を実現しました。
電源
AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ使用
装置サイズ
幅504 m m、奥行486mm、高さ497mm、重量37.7kg
真空排気系
ターボポンプ(TMP):67ℓ/sec(装置内蔵チャンバー直結)ダイヤフラムポンプ(DFP):20ℓ/min(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg)
到達真空度
1x10-4Pa以下
真空度測定
フルレンジ真空計
安全対策
系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック
操作パネル
タッチパネル式操作ディスプレイ搭載
スパッタ電源
イオン化電流:0~640mAイオン化電圧:0~650V
タイマー
調整範囲:0~9999sec
チャンバーサイズ
内径178mm、深さ159mmステンレスチャンバー
試料ステージサイズ
直径50mm、アノード電極分離フローティング方式
最大試料サイズ
直径50mm、高さ50mm
電極―試料台間隔
115mm、95mm、70mm各試料台付属
ターゲットサイズ
標準ターゲットサイズ:直径50mm、厚さ3mm)(オプション:厚さ1mm、2mm対応、厚さ0.5mm貴金属ターゲット+厚さ0.6mmNiプレート)
ターゲット種類
Pt他貴金属,Mo,Ta,W,ITO,C,Si,Ge,Al,Ni,Fe等
雰囲気ガス導入
マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。0.08~0.1MPa。φ1/4インチ接続
ターゲット冷却機構
水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。0.5~1ℓ/min。Φ6mmチューブ接続。
型番
MSP-40T取扱企業
株式会社真空デバイスカテゴリ
もっと見る
スパッタリング装置の製品88点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
商品画像 | 価格 (税抜) | 電源 | 装置サイズ | 真空排気系 | 到達真空度 | 真空度測定 | 安全対策 | 操作パネル | スパッタ電源 | タイマー | チャンバーサイズ | 試料ステージサイズ | 最大試料サイズ | 電極―試料台間隔 | ターゲットサイズ | ターゲット種類 | 雰囲気ガス導入 | ターゲット冷却機構 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
要見積もり | AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ使用 | 幅504 m m、奥行486mm、高さ497mm、重量37.7kg | ターボポンプ(TMP):67ℓ/sec(装置内蔵チャンバー直結)ダイヤフラムポンプ(DFP):20ℓ/min(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg) | 1x10-4Pa以下 | フルレンジ真空計 | 系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック | タッチパネル式操作ディスプレイ搭載 | イオン化電流:0~640mAイオン化電圧:0~650V | 調整範囲:0~9999sec | 内径178mm、深さ159mmステンレスチャンバー | 直径50mm、アノード電極分離フローティング方式 | 直径50mm、高さ50mm | 115mm、95mm、70mm各試料台付属 | 標準ターゲットサイズ:直径50mm、厚さ3mm)(オプション:厚さ1mm、2mm対応、厚さ0.5mm貴金属ターゲット+厚さ0.6mmNiプレート) | Pt他貴金属,Mo,Ta,W,ITO,C,Si,Ge,Al,Ni,Fe等 | マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。0.08~0.1MPa。φ1/4インチ接続 | 水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。0.5~1ℓ/min。Φ6mmチューブ接続。 |
スパッタリング装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が電子顕微鏡の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます