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・小形卓上型・小スペース装置で、強磁場による多種金属の成膜が可能です。 ・低い電圧でコーティングすると共に試料がフローティング式なので試料損傷を小さく抑えることが出来ます。 ・簡易操作を製品化設計に取り入れ、タッチパネル操作、レシピ機能、シーケンサー制御によるフルオートスパッタ成膜を実現しました。
電源
AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ使用
装置サイズ
幅504 m m、奥行486mm、高さ497mm、重量37.7kg
真空排気系
ターボポンプ(TMP)：67ℓ/sec(装置内蔵チャンバー直結)ダイヤフラムポンプ(DFP)：20ℓ/min(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg)
到達真空度
1ｘ10－4Pa以下
真空度測定
フルレンジ真空計
安全対策
系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック
操作パネル
タッチパネル式操作ディスプレイ搭載
スパッタ電源
イオン化電流：0~640mAイオン化電圧：0~650V
タイマー
調整範囲：0~9999sec
チャンバーサイズ
内径178mm、深さ159mmステンレスチャンバー
試料ステージサイズ
直径50mm、アノード電極分離フローティング方式
最大試料サイズ
直径50mm、高さ50mm
電極―試料台間隔
115mm、95mm、70mm各試料台付属
ターゲットサイズ
標準ターゲットサイズ：直径50mm、厚さ3mm)(オプション：厚さ1mm、2mm対応、厚さ0.5mm貴金属ターゲット＋厚さ0.6mmNiプレート)
ターゲット種類
Pt他貴金属，Mo，Ta，W，ITO，C，Si，Ge，Al，Ni，Fe等
雰囲気ガス導入
マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。0.08~0.1MPa。φ1/4インチ接続
ターゲット冷却機構
水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。0.5~1ℓ/min。Φ6mmチューブ接続。
型番
MSP-40T取扱企業
株式会社真空デバイスカテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年6月3日にレビュー済み
顧客対応への満足度
非常に迅速で丁寧なご対応を頂きました。感謝申し上げます。
初回対応までの時間への満足度
44.35時間
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スパッタリング装置の製品102点中、注目ランキング上位6点
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一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 電源 | 装置サイズ | 真空排気系 | 到達真空度 | 真空度測定 | 安全対策 | 操作パネル | スパッタ電源 | タイマー | チャンバーサイズ | 試料ステージサイズ | 最大試料サイズ | 電極―試料台間隔 | ターゲットサイズ | ターゲット種類 | 雰囲気ガス導入 | ターゲット冷却機構 |
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要見積もり | AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ使用 | 幅504 m m、奥行486mm、高さ497mm、重量37.7kg | ターボポンプ(TMP)：67ℓ/sec(装置内蔵チャンバー直結)ダイヤフラムポンプ(DFP)：20ℓ/min(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg) | 1ｘ10－4Pa以下 | フルレンジ真空計 | 系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック | タッチパネル式操作ディスプレイ搭載 | イオン化電流：0~640mAイオン化電圧：0~650V | 調整範囲：0~9999sec | 内径178mm、深さ159mmステンレスチャンバー | 直径50mm、アノード電極分離フローティング方式 | 直径50mm、高さ50mm | 115mm、95mm、70mm各試料台付属 | 標準ターゲットサイズ：直径50mm、厚さ3mm)(オプション：厚さ1mm、2mm対応、厚さ0.5mm貴金属ターゲット＋厚さ0.6mmNiプレート) | Pt他貴金属，Mo，Ta，W，ITO，C，Si，Ge，Al，Ni，Fe等 | マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。0.08~0.1MPa。φ1/4インチ接続 | 水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。0.5~1ℓ/min。Φ6mmチューブ接続。 |
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