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スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP-mini-株式会社真空デバイス

株式会社真空デバイスの対応状況

返答率

100.0%

返答時間

40.2時間

型番説明

・卓上SEM観察・光学顕微鏡用イオンスパッタ成膜装置です。 ・小面積の試料をコーティングする時の無駄を最小限にする為、小面積ターゲット (φ30mm) を使用。 ・試料台はスライドガラスがそのまま載るフラット試料ステージ。 ・低電圧コーティングで、デリケートな試料にも試料損傷がほとんどありません。 ・ボタン1つで排気・コーティング・リークまでを全自動で行います。 ・ターゲット金属は金 (Au) 標準。オプションで銀 (Ag) を選択可能です。 ・排気系は外置きRP5ℓ/minを採用。 ・補助試料ステージ (オプション) を使用すると、コーティングレートを上げて効率よく成膜が可能です。

全型番で同じ値の指標

ターゲット

φ30mmマグネトロン型

成膜対象金属

Au(標準)、オプション(Ag)

ターゲット金属寿命(t=10nm時)

Au(約800回)、Ag(約4000回)

試料ステージ

φ82mm

ターゲット-試料間隔

25.5mm

試料サイズ

有効径φ30mm、高さ15mm以下

チャンバーサイズ

内径90mmx深さ42mm

タイマー

OMRON社製電子タイマー

排気系

外置きRP5ℓ/min

安全対策

系統別フューズ付

装置サイズ

本体W190mm×H183mm×D265mm5kg

電源

AC100V,10Aアース線付3芯プラグ使用3m

この製品について

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 電子顕微鏡用途では主に金、白金といった貴金属が使われます。また、そのほかの金属ターゲットをスパッタできる上位機種もラインナップしております。

  • 型番

    MSP-mini

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スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP-mini MSP-miniの性能表

商品画像 価格 (税抜) ターゲット 成膜対象金属 ターゲット金属寿命(t=10nm時) 試料ステージ ターゲット-試料間隔 試料サイズ チャンバーサイズ タイマー 排気系 安全対策 装置サイズ 電源
スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP-mini-品番-MSP-mini 要見積もり φ30mmマグネトロン型 Au(標準)、オプション(Ag) Au(約800回)、Ag(約4000回) φ82mm 25.5mm 有効径φ30mm、高さ15mm以下 内径90mmx深さ42mm OMRON社製電子タイマー 外置きRP5ℓ/min 系統別フューズ付 本体W190mm×H183mm×D265mm5kg AC100V,10Aアース線付3芯プラグ使用3m

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処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室 クラスター式 インライン式 ロードロック式 トレイ搬送方式

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

40.2時間

会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開して...

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  • 本社所在地: 茨城県
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