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ソース 簡易型イオン銃 IS40C1取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
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スパッタリング装置の製品125点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 電流密度 | 加速電圧 | 真空度 (動作時) | 取付フランジ | 真空内ソース長 | ベイク温度 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
IS40C1 |
要見積もり |
15~25μA/cm2 |
0.12~5keV |
10-5~10-6 |
DN40CF (回転) |
63mm (標準) |
250℃以下 |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
