イオンスパッタ装置 G20
ハイソル株式会社
この製品について
■不活性ガスを一切使用せず低電流で簡単スパッタリング
導電性のない試料のSEM観察を行う際など、試料表面の帯電防止用コーティングに最適な卓上型のスパッタリング装置です。洗練されたコンパクトなデザインとタッチパネルを採用したシンプルなUIが快適な操作性をお約束致します。■概要
・不活性ガス不要 ・ワンタッチで真空引きからコーティングまで実行 ・条件はライブラリーへ保存 (最大10個) ・サンプルは最大7個まで同時加工 ・低電流によるサンプルへのダメージ軽減 ・Au,Ag,Ptによる成形 (最大50mmφ) ・本体＋ポンプ＋ターゲット1枚のセットで即日使用可能-
シリーズ
イオンスパッタ装置 G20
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取扱企業
ハイソル株式会社
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カテゴリ
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イオンスパッタ装置 G20 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 外形寸法 | 本体重量 | 電源 | イオン電流 | スパッタ処理時間 | ターゲット材質 | チャンバーサイズ | 対応サンプルサイズ |
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G20 |
要見積もり | 350×210mm (H230mm) | 10kg | 110V±10%、50/60Hz | 1~10mA (1mA / step) |
1~600秒 (1sec / step) ※10mA 100秒で約15nmの成形 |
Au, Ag, Pt (50mmφ / 99.99%) | 140mmφ (H100mm) | 50mmφ (H30mm) |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
