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3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200-CMS-3200
3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200-株式会社コメット

3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200
株式会社コメット



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この製品について

6元ののコンビナトリアル・スパッタ成膜装置のプロセス性能をそのままに、3元コンビ装置としてコンパクトにまとめました。6元装置 CMS-6420と比べて、スパッタ・カソードが3基であること、試料基板が2インチであること以外は、プロセス性能、制御能力は同一です。 移動マスク・基板回転機構からなる2元・3元のコンビナトリアル成膜手順を、レシピに従って全自動で実行します。 2インチSiウエハ上で650℃までの加熱コンビ成膜が可能です。 オプションとして、1,000℃までのポストアニーラー、四重極ガス分析器、Si専用表面放射温度計などを装備できるのも同一です。

■特徴

・2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応 有効成膜エリア : 1辺25mmの正三角形 ・2インチ・マグネトロン・スパッタカソード 3基搭載 ・RF・DC電源を各3組最大6基搭載可能 ・LabViewによるレシピ編集と全自動コンビナトリアル成膜

■基本仕様

・2"マトリクス用スパッタガン 3基 ・強磁性体用スパッタ・カソード ・2”ウエハカセットロードロックシステム ・25 mm/辺の3元コンビ試料の作成 ・3元組成傾斜成膜対応マスク・システム ・Co-sputtering成膜に対応 ・自動圧力制御 ・プロセスパラメーターロギング機能 ・基板加熱成膜対応 (650℃以上) ・TMP/Cryo-Pumpを用いたクリーンバキューム仕様 ・DC-RF電源を任意選択可能 (金属、酸化物、窒化物etc) ・使いやすいGUIのプロセスマネージャー

  • シリーズ

    3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200

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3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200-品番-CMS-3200

CMS-3200

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社コメットは、コンビナトリアル成膜技術を駆使して、新規機能性材料の開発をお手伝いする会社です。

 株式会社コメットは、国立研究開発法人 物質・材料研究機構(NIMS)発の認定ベンチャーとして設立さ...

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  • 本社所在地: 茨城県
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