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超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S151-S151
超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S151-日本エバテック株式会社

超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S151
日本エバテック株式会社



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この製品について

■高速かつ柔軟性のある基板成膜用途向けの大量生産ソリューションを提供

『SOLARISファミリー』は、1枚当り最速3秒、円盤形状最大430mm径までの成膜を可能とした高速成膜装置。 5,000台を超える高速光ディスク用システムを納入したノウハウと、3,000台を超える半導体用PVD装置から得られた経験を組み合わせて、薄膜を超高速に成膜が可能。光学フィルター、反射膜、透明電極、傷防止コーティング、加飾コーティング、耐腐食コーティングなどさまざまなスパッタ成膜に表面クリーニングエッチングも組み合わせが可能。 燃料電池金属セパレーター向け保護コーティングや、自動車内装品向け加飾コーティング、車載ディスプレイ向け無反射・透明電極コーティングなどにも適用が可能。

■特長

・基板成膜に「高速インライン」枚葉式アーキテクチャを導入 ・スループットを向上させ、ロボットハンドリングにより手動処理を排除 ・各種成膜プロセス向けの高速生産ソリューションを提供 また、エバテック社は半導体ウェハーおよびアドバンスドパッケージング、MEMSやワイヤレスフィルター向けに金属、圧電膜、絶縁膜等向けPVD、ALD、PECVD、エッチング搭載ソリューションも提供。

■基本情報

金属、透明電極、光学薄膜、保護膜、耐腐食膜、絶縁膜、加飾向け成膜可能。PVD (DC/DCパルス/RFスパッタ、リアクティブスパッタ、エッチングプロセスを搭載可能

■SOLARIS® S151

S151は、RTP、PVD、エッチング、またはCVDテクノロジーを使用した、パワーデバイス、太陽光発電、およびフォトニクスの選択されたアプリケーション向けのコスト効率の高い大量生産向けの主力製品です。実績のあるキャリアシステムにより、対角8インチまでの基板の高速処理を保証します。

  • シリーズ

    超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S151

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超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S151 品番1件

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

エバテック社は薄膜技術のグローバルリーダーとして、世界中の主要な半導体メーカーや研究開発機関で必要な成膜装置を製造しています。
エバテックの技術は、1946年にBalzers AG社が設立されてから70年間にわた...

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  • 本社所在地: 大阪府
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