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薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置-SDRシリーズ
薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置
神港精機株式会社

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この製品について

樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したRtoRタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユニット化、幅広い用途に対応しています。 ※基材は各種樹脂フィルム及び金属箔に対応いたします。

  • シリーズ

    薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置

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薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基材幅 基材厚み 基材巻径 基材用コア外径 走行速度 テンション スパッタカソード前処理機構 (オプション)
薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置-品番-SDRシリーズ

SDRシリーズ

要見積もり

300 ~ 1000 mm

20 ~ 50 µm

最大¢300m

6" (≒150 mm)

0.5 ~ 20m / min

5~50kgf / 全幅

最大4基

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スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

162.9時間

会社概要

神港精機株式会社は1949年に設立した、真空ポンプ・真空装置を中心にアセンブリ装置・光学検査装置を製造するメーカーです。 技術開発型の企業として、「真空技術」を応用した製造装置及びコンポーネントを主軸とした「モノづくり...

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  • 本社所在地: 兵庫県
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