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メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800-OWLS-1800
メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800-株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800
株式会社オプトラン



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この製品について

OWLS-1800は半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成膜や低温成膜にも対応可能です。

■特長

・12、10、8、6、4インチ ウェハーに対応 ・真空ロボットによる高速かつクリーンな基板搬送 ・最大3つのデュアル回転円筒型カソードを搭載 ・高反応性プラズマ源による低吸収膜を実現 ・オプションで光学膜厚計などのコンポーネントを搭載可能 ・半導体工程ウェハー搬送モジュールEFEMやSEMI規格に対応可能

  • シリーズ

    メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800

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メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 真空チャンバ LL室 真空チャンバ TR室 真空チャンバ PR室 基板ホルダ 基板回転機構 反応源 スパッタ源 排気システム 到達圧力 LL室、TR室 到達圧力 PR室 排気時間 LL室、TR室 排気時間 PR室
メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800-品番-OWLS-1800

OWLS-1800

要見積もり

W820mm × H1,455mm × D740mm

W1,070mm × H480mm × D1,070mm

W2,540mm × H745mm × D2,285mm

10 枚 (最大12インチ)

φ1,800mm × H48mm ターンテーブル式
10rpm ~ 100rpm (可変)

ICP (誘導結合プラズマ)

デュアルカソード、ロータリ式 (オプションで平板式)

あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナチラー

10Pa

5.0 × 10^-4 Pa以下

5 分 (大気から10Pa まで)

40 分 (大気から5.0 × 10^-3Pa まで)

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スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オプトランは1999年に設立された、真空成膜装置などの製造・輸出入をしている会社です。 複雑な集積回路である大規模集積回路の製造プロセスで、配線膜・絶縁膜を形成する機械である成膜装置、イオン化をするための装置で...

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  • 本社所在地: 東京都
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