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メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800取扱企業
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ LL室 | 真空チャンバ TR室 | 真空チャンバ PR室 | 基板ホルダ | 基板回転機構 | 反応源 | スパッタ源 | 排気システム | 到達圧力 LL室、TR室 | 到達圧力 PR室 | 排気時間 LL室、TR室 | 排気時間 PR室 |
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OWLS-1800 |
要見積もり |
W820mm × H1,455mm × D740mm |
W1,070mm × H480mm × D1,070mm |
W2,540mm × H745mm × D2,285mm |
10 枚 (最大12インチ) |
φ1,800mm × H48mm ターンテーブル式 |
ICP (誘導結合プラズマ) |
デュアルカソード、ロータリ式 (オプションで平板式) |
あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナチラー |
10Pa |
5.0 × 10^-4 Pa以下 |
5 分 (大気から10Pa まで) |
40 分 (大気から5.0 × 10^-3Pa まで) |
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