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RFスパッタ装置 SP-3600-SP-3600
RFスパッタ装置 SP-3600-株式会社サンバック

RFスパッタ装置 SP-3600
株式会社サンバック



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この製品について

RFスパッタ装置SP-3600は4インチ3源スパッタ装置で、膜厚分布を良くするために各カソードのマグネットが回転する構造になっております。基板ヒーターはマイクロセラミックヒーターを採用しておりますので、350℃迄短時間で昇温します。大きなオペレートタッチ画面と、初心者でも簡単に操作可能な排気系の自動操作、誤動作防止のための安全回路を搭載。ターボ分子ポンプによるクリーンな排気において、金属膜、酸化膜、絶縁膜の良質な成膜が可能です。又、最大の特徴はRFスパッタ成膜を最大3源,自動成膜が可能で、逆スパッタも自動運転可能です。

  • シリーズ

    RFスパッタ装置 SP-3600

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RFスパッタ装置 SP-3600 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 成膜室径 スパッタ用電源 逆スパッタ用電源 基板形状 膜厚分布 ターゲット寸法 ターゲット個数 基板回転 TS間距離 基板加熱 真空排気系 操作方法 ガス系統 ユーティリティ 動力 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 計装エアー ユーティリティ 寸法
RFスパッタ装置 SP-3600-品番-SP-3600

SP-3600

要見積もり

7.0×10-5Pa以下※常温・無負荷・脱ガス時

φ600mm×400mmH SUS304 電解研磨

RF電源 13.56MHz 600W 自動マッチング 1台

有り

φ4インチ×3枚

±10%以内

4インチ (金属・酸化物・絶縁物)

3

有り

50~150mmの間にて可変可能

常温~350℃迄昇温可能
制御方式:サイリスタ制御・PID方式デジタル温調計

油回転ポンプ:400L/min[60Hz]
ターボ分子ポンプ:480L/sec

自動/手動選択可能

マスフローコントローラ 2系統

AC200V三相 10.0kVA

10L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

0.5MPa以上

装置架台本体:1,244mmW×1,002mmD× (1,996) mmH
制御盤:570mmW×1,000mmD× (1,859) mmH

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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