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RFスパッタ装置 SP-31000R (2390)-SP-31000R (2390)
RFスパッタ装置 SP-31000R (2390)-株式会社サンバック

RFスパッタ装置 SP-31000R (2390)
株式会社サンバック

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この製品について

RFスパッタ装置SP-31000Rは5インチから数mmのチップまで、多様な寸法のスパッタリングが可能です。ターゲットを大きくするとともに、良い膜厚分布を得る事の出来る構造になっています。1台のスパッタリング用電源で、3個のターゲットに対して自動切り換え印加が可能で、多層膜生成用に適しています。

  • シリーズ

    RFスパッタ装置 SP-31000R (2390)

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RFスパッタ装置 SP-31000R (2390) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 排気速度 成膜室径 スパッタ用電源 基板形状 膜厚分布 ターゲット寸法 ターゲット個数 基板回転 基板加熱 真空排気系 操作方法 ガス系統 ユーティリティ 動力 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 計装エアー ユーティリティ 寸法
RFスパッタ装置 SP-31000R (2390)-品番-SP-31000R (2390)

SP-31000R (2390)

要見積もり

×10-5Pa台※常温・無負荷・脱ガス時

×10-4Pa台迄10分以内※常温・無負荷・脱ガス時

φ540mm×250mmH

RF電源 13.56MHz 1kW 自動マッチング 1台

5インチ 1枚

±10%以内

6インチ (金属・絶縁物)

3

無し

常温~200℃迄昇温可能

油回転ポンプ:900L/min
メカニカルブースターポンプ:100m3/h
クライオポンプ:1,200L/sec

自動

マスフローコントローラ 1系統

AC200V三相15kVA

8L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

0.5MPa以上

4,000mmW×2,000mmD×1,800mmH

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スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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