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RFスパッタ装置 SP-11000R-SP-11000R
RFスパッタ装置 SP-11000R-株式会社サンバック

RFスパッタ装置 SP-11000R
株式会社サンバック



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この製品について

RFスパッタ装置SP-11000Rは4個のプラネタリ式基材取付台が、上部フランジに設けられており、同一水平面を保持しながらターゲット上部を自公転します。特定のプラネタリを選別したり、全プラネタリを使用してのスパッタリングが出来ます。酸素ガスの導入による反応性スパッタリングが可能で、ITO成膜に最適です。

  • シリーズ

    RFスパッタ装置 SP-11000R

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RFスパッタ装置 SP-11000R 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 排気速度 成膜室径 スパッタ用電源 基板形状 膜厚分布 ターゲット形状 ターゲット個数 基板回転 基板加熱 真空排気系 操作方法 ガス系統 ユーティリティ 動力 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 計装エアー ユーティリティ 寸法
RFスパッタ装置 SP-11000R-品番-SP-11000R

SP-11000R

要見積もり

×10-4Pa台※常温・無負荷・脱ガス時

×10-4Pa台迄10分以内※常温・無負荷・脱ガス時

φ550mm×300mmH SUS304 電解研磨

RF電源 13.56MHz 1kW 自動マッチング 1台

A4サイズ 1枚

±10%以内

5インチ (金属・絶縁物)

1

有り

常温~250℃迄昇温可能

油回転ポンプ:800L/min
油拡散ポンプ:2,000L/sec

手動

マスフローコントローラ 2系統

AC200V三相7kVA

10L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

0.5MPa以上

2,500mmW×2,000mmD×1,200mmH

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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