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カルーセル型高速スパッタ重合装置 SPP-155TC取扱企業
株式会社昭和真空カテゴリ
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スパッタリング装置の製品125点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 排気ポンプ | 設置寸法 | 重量 | 電源容量 | 真空槽サイズ | 対応ワークサイズ | 対応ワーク材質 | プロセスガス | 排気時間 | サイクルタイム | 自動運転範囲 | 粗引き | カソード | スパッタ材料 | スパッタ電源 | 重合機構 | 重合電源 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
SPP-155TC |
要見積もり |
主排気：TMP×2+CRYO×1 粗引き：RP×1+MBP×1 |
W4,000mm×D4,000mm×H2,700mm |
6,200kg |
AC200~220V／約160kVA |
□850mm×H1,800mm |
Φ600mm×H1,200mm |
PC, PET, PP, PEなど |
O2→前処理用、後処理用 Ar→スパッタ用、HMDSO→前処理用、重合用 |
2.0×10-2Paまで3分以内 |
4分／1サイクル (参考値) |
真空排気→前処理 (O2プラズマ) →スパッタ (金属) → |
油回転ポンプ×1＋メカニカルブースターポンプ×1 |
6×55インチマグネトロンカソード |
Al、SUSなど |
80kW DC電源×1式 (20kW電源×4台直列) |
バー電極 (前処理、重合、後処理用) |
10kW MF電源 |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
