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ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ-SPC-2507-Ⅱ
ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ-株式会社昭和真空

ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ
株式会社昭和真空



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この製品について

■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置

基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置です。間欠成膜なので低温成膜が可能です。130℃以下で低温成膜が可能になることによりCrの拡散防止対策などにも有効です。

■用途・応用例

各種電子部品への電極用金属膜の形成

■特長

・外形:W1,280mm×D1,150mm×H2,250mm ・通過型SPH-2500T-Ⅱで解消できずにいた熱の問題はスパッタ中での温度上昇を抑制することにより低温成膜を実現 ・基板回転・反転機構はマグネットによる非接触動力伝達方式 (マグトラン®) を採用※マグトラン®は (株) エフ・イー・シーの登録商標です。 ・パワー変調機能 (回転方向の膜厚分布調整用) (オプション) ・カソード (3源目) (オプション)

  • シリーズ

    ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ

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ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) カソード 基板トレイ 成膜有効範囲 軸数 ウエハ枚数 排気ポンプ 設置寸法 重量 電源容量 処理方式 膜厚分布 処理バッチ数 処理枚数 到達圧力 排気時間 基板加熱温度
ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ-品番-SPC-2507-Ⅱ

SPC-2507-Ⅱ

要見積もり

5インチ×7インチ 2式

Forφ4:トレイW120mm×L200mm

Forφ4:トレイ W100mm

φ4用:12軸

φ4用:12枚

RP+CRYO

W1,280mm×D1,150mm×H2,250mm

1,500kg

AC200~220V/17kVA (50A)

ロードロック式 カルーセル型

トレイ内 ±2% / トレイ間 ±2%

φ3:42バッチ/日 (22時間稼働想定) φ4:47バッチ/日 (22時間稼働想定) ※Cr:5nm (両面) 、Au:250nm (両面) 成膜時

φ3:512枚/日 (22時間稼働想定) φ4:424枚/日 (22時間稼働想定)

1.0×10-3Pa以下 (全室排気)

仕込・取出室 1.0×101Paまで2分以内

150℃以上を確認

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社昭和真空は、1958年に設立された、真空関連装置メーカーです。 2000年にはJASDAQ上場(現在は東証スタンダード市場)を果たします。 真空技術を中心とした、装置製造を軸としており、全て受注生産であることが...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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