全てのカテゴリ
閲覧履歴
シリーズ
ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ取扱企業
株式会社昭和真空カテゴリ
もっと見る
スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | カソード | 基板トレイ | 成膜有効範囲 | 軸数 | ウエハ枚数 | 排気ポンプ | 設置寸法 | 重量 | 電源容量 | 処理方式 | 膜厚分布 | 処理バッチ数 | 処理枚数 | 到達圧力 | 排気時間 | 基板加熱温度 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
SPC-2507-Ⅱ |
要見積もり |
5インチ×7インチ 2式 |
Forφ4:トレイW120mm×L200mm |
Forφ4:トレイ W100mm |
φ4用:12軸 |
φ4用:12枚 |
RP+CRYO |
W1,280mm×D1,150mm×H2,250mm |
1,500kg |
AC200~220V/17kVA (50A) |
ロードロック式 カルーセル型 |
トレイ内 ±2% / トレイ間 ±2% |
φ3:42バッチ/日 (22時間稼働想定) φ4:47バッチ/日 (22時間稼働想定) ※Cr:5nm (両面) 、Au:250nm (両面) 成膜時 |
φ3:512枚/日 (22時間稼働想定) φ4:424枚/日 (22時間稼働想定) |
1.0×10-3Pa以下 (全室排気) |
仕込・取出室 1.0×101Paまで2分以内 |
150℃以上を確認 |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800