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ロードロック式 スパッタリング装置 SPH-2500T-Ⅱ取扱企業
株式会社昭和真空カテゴリ
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スパッタリング装置の製品123点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 排気ポンプ | 設置寸法 | 重量 | 電源容量 | ターゲットサイズ | 処理方式 | カソード | トレイサイズ | 基板搬送方式 | ストッカー | 膜厚分布 | ターゲット使用効率 | サイクルタイム | 到達圧力 | 排気時間 | 基板加熱温度 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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SPH-2500T-Ⅱ |
要見積もり |
RP+TMP※オプション:クライオポンプ対応可 |
W1,100mm×D3,640mm×H1,680mm |
1,900kg |
AC200~220V (3Φ) /27kVA (78A) |
W126mm (5inch) ×H178mm (7inch) ×t6mm |
ロードロック式、通過型 |
5インチ×7インチ 2対 (うち1対が高使用効率カソード) |
L350mm×H139mm |
ラック&ピニオン搬送 |
10トレイ収納 |
トレイ内 ±1.2% / トレイ間 ±1.5%※成膜有効範囲±50mm |
40% |
3min/トレイ ※Cr:8nm、Ag:45nm成膜時 1トレイ目除く |
仕込/取出室 1.0×10-3Pa以下 SP室 1.0×10-3Pa以下 |
仕込/取出室 2.0×10-2Pa迄 3分以内 SP室 1.2×10-2Pa迄 10分以内 |
150℃以上を確認 |
スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
対象搬送方式: スルーフィード型
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800