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シリーズ
独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
利用シーン
電子・電気機器業界用 / 自動車・輸送用機器業界用 / 化学業界用Metoree経由で見積もり
2024年12月12日にレビュー済み
顧客対応への満足度
回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。
初回対応までの時間への満足度
4.22時間
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | スパッタカソード | スパッタ電源 | プロセスガス | 基板ステージ | 真空排気 | 圧力制御 | 制御操作 | データロギング | 基板搬送 | オプション |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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多元スパッタリング装置 |
要見積もり |
最大φ12インチ |
マグネトロン方式、ターゲットシャッタ |
RFまたはDC |
Ar、O2、N2、他 |
基板加熱:700℃ (基板表面) |
構成1:TMP+DP |
APC制御 |
制御:PLC |
外部メモリまたはPC |
真空搬送ロボット |
基板加熱900℃、基板バイアス (RFまたはDC) 、基板冷却 (低温成膜) 、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、発光分析システム、トレイ搬送、Q-MASS etc |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800