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小型スパッタ装置 SS-DC RF301-SS-DC RF301
小型スパッタ装置 SS-DC RF301-アリオス株式会社

小型スパッタ装置 SS-DC RF301
アリオス株式会社

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この製品について

■概要

小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較的大きなエネルギーを持っているために、密着性の高い強固な膜が作れる点にあります。一方で、アルゴンなどでプラズマを作り、これが基板に作用するため、基板表面の荒れなどが問題になる場合があります。 本装置は 2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ1基搭載した小型スパッタ装置です。JISラックサイズに全ての機能を詰め込み、省スペースと使いやすさを追求しています。 また、交換室付きUHV対応タイプのスパッタ装置もございます。

■特徴

・小型ながら本格的なスパッタ装置と同等の仕様、性能です。 ・小型軽量シンプル設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能です。 ・基板上下機構により、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 ・基板加熱を高温で行えます。 ・チラー標準装備により、電気とガスのみで運転が可能です。 ・フランジに互換性を持たせ、スパッタアップとスパッタダウンに組み替えが可能です。 ・スパッタ用電源はDC、RFのどちらも選択可能です。

  • シリーズ

    小型スパッタ装置 SS-DC RF301

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小型スパッタ装置 SS-DC RF301 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 リーク量 排気系 真空計 基板ステージ 基板加熱温度 基板上下機構 カソード ガス供給系 本体架台 サイズ 重量 用力 電力 用力 プロセスガス 用力 窒素ガス (パージ用) カソード ターゲットサイズ カソード ターゲット材質 カソード 冷却方法 カソード 電源
小型スパッタ装置 SS-DC RF301-品番-SS-DC RF301

SS-DC RF301

要見積もり

3×10^-4 Pa以下

1×10^-8 Pa・m^3/sec以下 (Oリング透過分を除く)

TMP+ダイヤフラムポンプ

フルレンジ真空計 (コールドカソード+ピラニゲージ)

2インチ対応ステージ

MAX 500℃ (オプションでMAX 800℃ にも対応可能)

ストローク 100mm 手動操作 Oリング軸シール

マグネトロンカソード

MFC1系統 (Ar) 1/4 SwagelokTM 又は VCRTM 接続

キャスターアジャスター付き

W540×D600 H1280 (コネクター部分等を除く)

約100kg

AC200V 単相 20A)

Ar (1/4 SwagelokTM 又は 1/4 VCRTM)

0.05~0.1 MPa (1/4 SwagelokTM 又は 1/4 VCRTM)

2インチ

各種 メカニカルチャック方式 又は ボンディング方式

水冷式 (チラーを搭載)

DC出力 500W 又は RF出力 300W

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

アリオス株式会社は、1972年に創業したプラズマ・真空装置製造メーカーです。 長年のプラズマ発生技術、イオン、電子利用技術開発で培ったノウハウもをとに、成膜装置、ラングミュアプローブ、ダイヤモンドCVD合成装置などの真...

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  • 本社所在地: 東京都
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