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スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK-MSP-20-TK
スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK-株式会社真空デバイス

スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK
株式会社真空デバイス

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この製品について

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 電子顕微鏡用途では主に金、白金といった貴金属が使われます。また、そのほかの金属ターゲットをスパッタできる上位機種もラインナップしております。

  • シリーズ

    スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK

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スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ターゲット ターゲット金属 印加電圧/電流 試料ステージ ターゲット-試料間隔 試料サイズ チャンバーサイズ シャッター タイマー 排気系 到達真空度 雰囲気ガス導入 安全対策 装置サイズ 電源
スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK-品番-MSP-20-TK

MSP-20-TK

要見積もり

φ50 m m空冷式マグネトロン

標準:W、オプション:Mo/Cr/Ni/Ta/Cu/Ti/(厚さ1mm)貴金属:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag(厚さ0.5mm)

電圧DC0~500V/電流DC0~200mA

φ47mmフローティング方式

50~70mm

直径≦φ45mm、高さ:≦30 m m

内径149mm、深さ126mm

プレスパッタ用シャッター標準付属

OMRON社製電子タイマー

外置きRP50ℓ/min14.6kg

1(Pa)以下

1/4’導入パイプ、0.07MPa以下使用。

系統別フューズ、上蓋開放感知センサー

本体W354mm×D368mm×H43022kg

AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用3m

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室 クラスター式 インライン式 ロードロック式 トレイ搬送方式

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開して...

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  • 本社所在地: 茨城県
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