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スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T-MSP-40T
スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T-株式会社真空デバイス

スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T
株式会社真空デバイス

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この製品について

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 電子顕微鏡用途では主に金、白金といった貴金属が使われます。また、そのほかの金属ターゲットをスパッタできる上位機種もラインナップしております。

  • シリーズ

    スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T

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スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 電源 装置サイズ 真空排気系 到達真空度 真空度測定 安全対策 操作パネル スパッタ電源 タイマー チャンバーサイズ 試料ステージサイズ 最大試料サイズ 電極―試料台間隔 ターゲットサイズ ターゲット種類 雰囲気ガス導入 ターゲット冷却機構
スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T-品番-MSP-40T

MSP-40T

要見積もり

AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ使用

幅504 m m、奥行486mm、高さ497mm、重量37.7kg

ターボポンプ(TMP):67ℓ/sec(装置内蔵チャンバー直結)ダイヤフラムポンプ(DFP):20ℓ/min(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg)

1x10-4Pa以下

フルレンジ真空計

系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック

タッチパネル式操作ディスプレイ搭載

イオン化電流:0~640mAイオン化電圧:0~650V

調整範囲:0~9999sec

内径178mm、深さ159mmステンレスチャンバー

直径50mm、アノード電極分離フローティング方式

直径50mm、高さ50mm

115mm、95mm、70mm各試料台付属

標準ターゲットサイズ:直径50mm、厚さ3mm)(オプション:厚さ1mm、2mm対応、厚さ0.5mm貴金属ターゲット+厚さ0.6mmNiプレート)

Pt他貴金属,Mo,Ta,W,ITO,C,Si,Ge,Al,Ni,Fe等

マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。0.08~0.1MPa。φ1/4インチ接続

水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。0.5~1ℓ/min。Φ6mmチューブ接続。

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開して...

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  • 本社所在地: 茨城県
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