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スパッタ装置 電子顕微鏡向け全自動マグネトロンスパッタ装置 MSP-1S取扱企業
株式会社真空デバイスカテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年6月3日にレビュー済み
顧客対応への満足度
非常に迅速で丁寧なご対応を頂きました。感謝申し上げます。
初回対応までの時間への満足度
44.35時間
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スパッタリング装置の製品124点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | コーティング室サイズ | ターゲット電極サイズ | 試料ステージサイズ | ターゲット金属 | ターゲット－試料ステージ間隔 | 最大試料サイズ | 最高放電電流/印加電圧 | 使用電流範囲 | コーティングむら(φ50mm面内) | 電源 | 本体外形寸法 | 本体重量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
MSP-1S |
要見積もり |
内径120mm、高さ66mm |
直径47.5mm(実効面径) |
直径50mm |
ｔ=0.1、φ50、Au-Pd(標準)オプション：Au、Pt、Pt-Pd |
34mm |
φ48mm高さ20mm |
50mA/500V |
30mA~50mA |
≦10% |
AC100V，10Aアース線付き3芯プラグ |
W200mm×D340mm×H350mm |
14kg |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
