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薄膜形成装置 超高真空スパッタリング装置-神港精機株式会社

全型番で同じ値の指標

処理基板

最大¢100mm

装置構成 / ロードロック室

1室

装置構成 / カセット室

1室

装置構成 / 搬送室

1室

装置構成 / スパッタ室

3室

カソード仕様

RMC

スパッタ方向

ダウン

プロセス性能 / 膜厚分布

±5%以内 (¢65)

プロセス性能 / エッチング分布

±10%以内 (¢65)

プロセス性能 / 基板加熱

500℃

各室到達压力 / ロードロック室

8.0 x 10-⁶Pa以下

各室到達压力 / カセット室

4.0 x 10-⁶Pa以下

各室到達压力 / 搬送室

1.0 x 10-⁷Pa以下

各室到達压力 / スパッタ室

1.0 x 10-⁶Pa以下

操作方法

全自動CtoC方式

この製品について

スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室・搬送室・スパッタ室の全6室より構成され、超高真空中での多層成膜・一環処理が可能です。磁気デバイスや化合物などの開発に極めて有効です。 【特徴】 ・磁気デバイス・窒化物・酸化物半導体等最先端デバイスの研究開発用 ・最大φ8インチウェハまで対応の最新マルチチャンバシステム

  • 型番

    STM2323

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薄膜形成装置 超高真空スパッタリング装置 STM2323の性能表

商品画像 価格 (税抜) 処理基板 装置構成 / ロードロック室 装置構成 / カセット室 装置構成 / 搬送室 装置構成 / スパッタ室 カソード仕様 スパッタ方向 プロセス性能 / 膜厚分布 プロセス性能 / エッチング分布 プロセス性能 / 基板加熱 各室到達压力 / ロードロック室 各室到達压力 / カセット室 各室到達压力 / 搬送室 各室到達压力 / スパッタ室 操作方法
薄膜形成装置 超高真空スパッタリング装置-品番-STM2323 要見積もり 最大¢100mm 1室 1室 1室 3室 RMC ダウン ±5%以内 (¢65) ±10%以内 (¢65) 500℃ 8.0 x 10-⁶Pa以下 4.0 x 10-⁶Pa以下 1.0 x 10-⁷Pa以下 1.0 x 10-⁶Pa以下 全自動CtoC方式

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

神港精機株式会社は1949年に設立した、真空ポンプ・真空装置を中心にアセンブリ装置・光学検査装置を製造するメーカーです。 技術開発型の企業として、「真空技術」を応用した製造装置及びコンポーネントを主軸とした「モノづくり...

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  • 本社所在地: 兵庫県

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