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100.0%
返答時間
145.6時間
真空チャンバ LL室
W820mm × H1,455mm × D740mm
真空チャンバ TR室
W1,070mm × H480mm × D1,070mm
真空チャンバ PR室
W2,540mm × H745mm × D2,285mm
基板ホルダ
10 枚 (最大12インチ)
基板回転機構
φ1,800mm × H48mm ターンテーブル式 10rpm ~ 100rpm (可変)
反応源
ICP (誘導結合プラズマ)
スパッタ源
デュアルカソード、ロータリ式 (オプションで平板式)
排気システム
あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナチラー
到達圧力 LL室、TR室
10Pa
到達圧力 PR室
5.0 × 10^-4 Pa以下
排気時間 LL室、TR室
5 分 (大気から10Pa まで)
排気時間 PR室
40 分 (大気から5.0 × 10^-3Pa まで)
型番
OWLS-1800取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
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スパッタリング装置の製品124点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ LL室 | 真空チャンバ TR室 | 真空チャンバ PR室 | 基板ホルダ | 基板回転機構 | 反応源 | スパッタ源 | 排気システム | 到達圧力 LL室、TR室 | 到達圧力 PR室 | 排気時間 LL室、TR室 | 排気時間 PR室 |
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要見積もり | W820mm × H1,455mm × D740mm | W1,070mm × H480mm × D1,070mm | W2,540mm × H745mm × D2,285mm | 10 枚 (最大12インチ) |
φ1,800mm × H48mm ターンテーブル式 10rpm ~ 100rpm (可変) |
ICP (誘導結合プラズマ) | デュアルカソード、ロータリ式 (オプションで平板式) | あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナチラー | 10Pa | 5.0 × 10^-4 Pa以下 | 5 分 (大気から10Pa まで) | 40 分 (大気から5.0 × 10^-3Pa まで) |
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ターゲット構成がロータリターゲット型の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
