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メタルモードスパッタ装置 NSC-2350-株式会社オプトラン

全型番で同じ値の指標

真空チャンバ LL室

SUS304、W700 × H1,860mm × D1,760mm

真空チャンバ UL室

W700 × H1,860 × D1,760mm

真空チャンバ 搬送室

W660 × H1,860 × D1,760mm

真空チャンバ PR室

SUS304、φ2,350 × H1,950mm

基板ホルダ

15 枚~ 22 枚選択可能

基板回転機構

φ2,245mm ドラム式、 10rpm ~ 50rpm (可変)

反応源

ICP (誘導結合プラズマ)

スパッタ源

デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option)

排気システム

あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナーチラー

到達圧力 LL室

10Pa

到達圧力 PR室

2.0 × 10^-4 Pa以下

排気時間 LL室

8 分 (大気から10Pa まで)

排気時間 PR室

40 分 (大気から9.0 × 10^-4Pa まで)

この製品について

NSC-2350は大型基板に対応した光学薄膜用メタルモード・スパッタ装置です。モバイル端末や車載パネルのAR+AS膜の生産に適しています。

■特長

・成膜領域:最大 H1,100 × W450mm ・最大6基のカソードを搭載可能 ・カソードと他のコンポーネントの置換可能 ・高反応性プラズマ源による低吸収膜 ・ロードロック式基盤ホルダ搬送機構を搭載 ・成膜システム・搬送系の最適化により低パーティクルを実現 ・AR+ASをワンプロセスで成膜可能

  • 型番

    NSC-2350

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メタルモードスパッタ装置 NSC-2350 NSC-2350の性能表

商品画像 価格 (税抜) 真空チャンバ LL室 真空チャンバ UL室 真空チャンバ 搬送室 真空チャンバ PR室 基板ホルダ 基板回転機構 反応源 スパッタ源 排気システム 到達圧力 LL室 到達圧力 PR室 排気時間 LL室 排気時間 PR室
メタルモードスパッタ装置 NSC-2350-品番-NSC-2350 要見積もり SUS304、W700 × H1,860mm × D1,760mm W700 × H1,860 × D1,760mm W660 × H1,860 × D1,760mm SUS304、φ2,350 × H1,950mm 15 枚~ 22 枚選択可能 φ2,245mm ドラム式、 10rpm ~ 50rpm (可変) ICP (誘導結合プラズマ) デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option) あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナーチラー 10Pa 2.0 × 10^-4 Pa以下 8 分 (大気から10Pa まで) 40 分 (大気から9.0 × 10^-4Pa まで)

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オプトランは1999年に設立された、真空成膜装置などの製造・輸出入をしている会社です。 複雑な集積回路である大規模集積回路の製造プロセスで、配線膜・絶縁膜を形成する機械である成膜装置、イオン化をするための装置で...

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  • 本社所在地: 東京都

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