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真空チャンバ LL室
SUS304、W500mm × D800mm × H2,890mm
真空チャンバ PR室
SUS304、φ 1,650mm ×H 1,200mm
基板ホルダ
13 枚~ 22 枚選択可能
基板回転機構
φ1,500mm ドラム式、 10rpm ~ 100rpm (可変)
反応源
ICP (誘導結合プラズマ)
スパッタ源
デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option)
排気システム
あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ
到達圧力 LL室
10Pa
到達圧力 PR室
5.0 × 10-^4 Pa以下
排気時間 LL室
20 分以内 (大気から1.0 × 10-1Pa まで)
排気時間 PR室
40 分以内 (大気から5.0 × 10-3Pa まで)
設定基板加熱温度
150℃ (オプション)
型番
NSC-15シリーズ
メタルモードスパッタ装置 NSC-15取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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一括見積もり
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返答率96%
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商品画像 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ LL室 | 真空チャンバ PR室 | 基板ホルダ | 基板回転機構 | 反応源 | スパッタ源 | 排気システム | 到達圧力 LL室 | 到達圧力 PR室 | 排気時間 LL室 | 排気時間 PR室 | 設定基板加熱温度 |
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要見積もり | SUS304、W500mm × D800mm × H2,890mm | SUS304、φ 1,650mm ×H 1,200mm | 13 枚~ 22 枚選択可能 | φ1,500mm ドラム式、 10rpm ~ 100rpm (可変) | ICP (誘導結合プラズマ) | デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option) | あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ | 10Pa | 5.0 × 10-^4 Pa以下 | 20 分以内 (大気から1.0 × 10-1Pa まで) | 40 分以内 (大気から5.0 × 10-3Pa まで) | 150℃ (オプション) |
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ターゲット構成がロータリターゲット型の製品
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使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800