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メタルモードスパッタ装置 NSC-15-株式会社オプトラン

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真空チャンバ LL室

SUS304、W500mm × D800mm × H2,890mm

真空チャンバ PR室

SUS304、φ 1,650mm ×H 1,200mm

基板ホルダ

13 枚~ 22 枚選択可能

基板回転機構

φ1,500mm ドラム式、 10rpm ~ 100rpm (可変)

反応源

ICP (誘導結合プラズマ)

スパッタ源

デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option)

排気システム

あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ

到達圧力 LL室

10Pa

到達圧力 PR室

5.0 × 10-^4 Pa以下

排気時間 LL室

20 分以内 (大気から1.0 × 10-1Pa まで)

排気時間 PR室

40 分以内 (大気から5.0 × 10-3Pa まで)

設定基板加熱温度

150℃ (オプション)

この製品について

NSC-15はメタル (金属) モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを実現するロードロック機構を装備しています。

■特長

・最多4種類のターゲットの搭載可能 ・カソードと他のコンポーネントとの置換え可能 ・デュアル回転円筒型カソードによる安定した放電 ・高反応性プラズマ源による低吸収膜 ・ロードロック式基板ホルダ搬送機構

  • 型番

    NSC-15

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メタルモードスパッタ装置 NSC-15 NSC-15の性能表

商品画像 価格 (税抜) 真空チャンバ LL室 真空チャンバ PR室 基板ホルダ 基板回転機構 反応源 スパッタ源 排気システム 到達圧力 LL室 到達圧力 PR室 排気時間 LL室 排気時間 PR室 設定基板加熱温度
メタルモードスパッタ装置 NSC-15-品番-NSC-15 要見積もり SUS304、W500mm × D800mm × H2,890mm SUS304、φ 1,650mm ×H 1,200mm 13 枚~ 22 枚選択可能 φ1,500mm ドラム式、 10rpm ~ 100rpm (可変) ICP (誘導結合プラズマ) デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option) あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ 10Pa 5.0 × 10-^4 Pa以下 20 分以内 (大気から1.0 × 10-1Pa まで) 40 分以内 (大気から5.0 × 10-3Pa まで) 150℃ (オプション)

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オプトランは1999年に設立された、真空成膜装置などの製造・輸出入をしている会社です。 複雑な集積回路である大規模集積回路の製造プロセスで、配線膜・絶縁膜を形成する機械である成膜装置、イオン化をするための装置で...

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  • 本社所在地: 東京都
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