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ターボマルチコーター AT-901-株式会社エーティーエー

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スパッタリング方式

DCマグネトロンスパッタリング、放電電圧:DC 1500V max、放電電流:DC 50mA max

ターゲット (別売)

Cr、Pt、Au、Au-Pdなどオプションとして各種ターゲットを用意

使用ガス

Air、Ar

到達真空圧

10-2Pa以下 (スパッタ時1Pa)

チャンバー内寸

φ100mm

試料ホルダー

φ50mm

真空排気

主排気:ターボミニポンプ (本体内蔵) 、補助排気:ダイヤフラムポンプ (外置き)

寸法

本体 360W × 417D × 380H

重量

本体 約20kg、ダイヤフラムポンプ 4kg

電源

AC 100V/200V (出荷時選択) 5A、15A (別売カーボンコーディングアタッチメント)

この製品について

■特徴

高倍率観察に必要なCr (粉状性) のスパッタが可能。特殊シャッター機能により試料の熱損傷を抑制。排気ポンプによる内外へのオイル汚染無し。

■オプション

カーボンコーティングアタッチメント (オプション) によりカーボン被膜生成が可能。プラズマクリーニング (本体オプション) により有機系異物除去・表面進化処理が可能。

  • 型番

    AT-901

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ターボマルチコーター AT-901 AT-901の性能表

商品画像 価格 (税抜) スパッタリング方式 ターゲット (別売) 使用ガス 到達真空圧 チャンバー内寸 試料ホルダー 真空排気 寸法 重量 電源
ターボマルチコーター AT-901-品番-AT-901 要見積もり DCマグネトロンスパッタリング、放電電圧:DC 1500V max、放電電流:DC 50mA max Cr、Pt、Au、Au-Pdなどオプションとして各種ターゲットを用意 Air、Ar 10-2Pa以下 (スパッタ時1Pa) φ100mm φ50mm 主排気:ターボミニポンプ (本体内蔵) 、補助排気:ダイヤフラムポンプ (外置き) 本体 360W × 417D × 380H 本体 約20kg、ダイヤフラムポンプ 4kg AC 100V/200V (出荷時選択) 5A、15A (別売カーボンコーディングアタッチメント)

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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