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コンパクト・スモールフットプリント高性能RF/DC マグネトロンスパッタリング装置 nanoPVD-S10A-テルモセラ・ジャパン株式会社

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返答率

100.0%

返答時間

29.2時間

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基板サイズ

Φ2inch、又はΦ4inch

基板ステージ

基板ステージ

シャッター

Φ2inch基板用シャッターx1 (標準) 空圧制御式

マグネトロンカソード

Φ2inchx1基付属 (標準)

スパッタ電源

DC800W、RF150W (13.56MHz 自動マッチング付) 1台

プラズマSWリレー

1:3 (1電源入力→3カソード分配)

真空ポンプ

ターボ分子ポンプEXT75DX, ロータリーポンプRV3

真空計

ワイドレンジピラニゲージ:10-9~1,000mbar

プロセスガス制御

マスフローコントローラ1ch:Ar x1ch付属 (標準)

操作パネル

7inch高解像度タッチパネル (次項写真参照) 専用ソフトウア’Intellidep’付属プリインストール

装置寸法

804 (W) x 570 (D) x 600 (H) mm

装置重量

本体重量約70kg

到達真空度

5x10-5Pascal

チャンバー内アクセス

トップローディング式 (上部フランジ開閉 ヒンジ固定)

チャンバー材質・寸法

SUS304製 寸法:250 (高さ) x Φ225mm (内径) 13l容積

チャンバーベースポート

・カソード用アングルポートx 3、 中心軸ポート x 1 ・膜厚センサ・ガス・真空ポート x 各1、冷却水 x 1系統

トップフランジポート

Φ2/4”用基板ホルダー・回転・昇降・ヒーター・熱電対・シャッター

フロントビューポート

Φ70mmフロントビューポート (シールドメッシュ)

ユーティリティ接続

装置背面接続:1/4Swagelok、Φ6mmクイック継手

電源

200V 三相 20A 50/60Hz

冷却水

1l/min 18~20℃ 20kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続

圧縮空気*

415kpa~550kpa* Φ6mmクイック継手接続

ユーティリティ プロセスガス*

105kpa~170kpa* 50sccm 1/4Swagelok継手接続

ベントガス*

35kpa (max.) * 純度99.995% Φ6mmクイック継手

この製品について

■優れた基本性能

・到達真空度 5x10-5 Pascal ・SUS304高真空チャンバー ・素早い真空到達 (10-3Paまで約10分) ・膜均一性:±3% (絶縁膜) , ±5% (金属膜) ・到達真空度

■高機能システム

・自動多層連続成膜コントロール ・同時成膜 (*RF/DC, DC/DCの同時成膜のみ) ・高精度自動プロセス圧力制御 ・真空引き/ベント自動運転

■洗練されたソフトウエア

・7”タッチスクリーン操作 直感的操作 ・30種類のレシピ登録 ・Windows PCとUSB接続 ・ログ解析、グラフ表示データ解析

■豊富なオプション

・基板回転, 上下昇降 ・加熱ヒーターMax500℃ ・MFCx3系統 反応性スパッタリング ・磁性材料用高強度マグネトロン ・ファストベント (最短6分でベント完了)

■追加オプション構成

・Φ6inch、 Φ8inch (Φ200mm専用基板ホルダー付属) ・指定形状基板ホルダー (10mm角基板等) ・Φ4inch基板用シャッターx1 2つ割 空圧制御式 ・Φ2inchx2基追加 (最大3基) ・DC800W、もしくはRF150Wいずれか1台を追加 (最大2台) ・2:3 (2電源入力→3カソード分配) ・ドライスクロールポンプnXDS6i ・キャパシタンスマノメータ (Baratron) :100mTorr F.S. ・マスフローコントローラ2ch追加:N2, O2 (最大3系統)

  • 型番

    nanoPVD-S10A

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コンパクト・スモールフットプリント高性能RF/DC マグネトロンスパッタリング装置 nanoPVD-S10A nanoPVD-S10Aの性能表

商品画像 価格 (税抜) 基板サイズ 基板ステージ シャッター マグネトロンカソード スパッタ電源 プラズマSWリレー 真空ポンプ 真空計 プロセスガス制御 操作パネル 装置寸法 装置重量 到達真空度 チャンバー内アクセス チャンバー材質・寸法 チャンバーベースポート トップフランジポート フロントビューポート ユーティリティ接続 電源 冷却水 圧縮空気* ユーティリティ プロセスガス* ベントガス*
コンパクト・スモールフットプリント高性能RF/DC マグネトロンスパッタリング装置 nanoPVD-S10A-品番-nanoPVD-S10A 要見積もり Φ2inch、又はΦ4inch 基板ステージ Φ2inch基板用シャッターx1 (標準) 空圧制御式 Φ2inchx1基付属 (標準) DC800W、RF150W (13.56MHz 自動マッチング付) 1台 1:3 (1電源入力→3カソード分配) ターボ分子ポンプEXT75DX, ロータリーポンプRV3 ワイドレンジピラニゲージ:10-9~1,000mbar マスフローコントローラ1ch:Ar x1ch付属 (標準) 7inch高解像度タッチパネル (次項写真参照) 専用ソフトウア’Intellidep’付属プリインストール 804 (W) x 570 (D) x 600 (H) mm 本体重量約70kg 5x10-5Pascal トップローディング式 (上部フランジ開閉 ヒンジ固定) SUS304製 寸法:250 (高さ) x Φ225mm (内径) 13l容積 ・カソード用アングルポートx 3、 中心軸ポート x 1
・膜厚センサ・ガス・真空ポート x 各1、冷却水 x 1系統
Φ2/4”用基板ホルダー・回転・昇降・ヒーター・熱電対・シャッター Φ70mmフロントビューポート (シールドメッシュ) 装置背面接続:1/4Swagelok、Φ6mmクイック継手 200V 三相 20A 50/60Hz 1l/min 18~20℃ 20kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続 415kpa~550kpa* Φ6mmクイック継手接続 105kpa~170kpa* 50sccm 1/4Swagelok継手接続 35kpa (max.) * 純度99.995% Φ6mmクイック継手

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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  • 本社所在地: 東京都

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