全てのカテゴリ
閲覧履歴
返答率
100.0%
返答時間
1.8時間
到達圧力
3×10^-4 Pa以下
リーク量
1×10^-8 Pa・m^3/sec以下 (Oリング透過分を除く)
排気系
TMP+ダイヤフラムポンプ
真空計
フルレンジ真空計 (コールドカソード+ピラニゲージ)
基板ステージ
2インチ対応ステージ
基板加熱温度
MAX 500℃ (オプションでMAX 800℃ にも対応可能)
基板上下機構
ストローク 100mm 手動操作 Oリング軸シール
カソード
マグネトロンカソード
ガス供給系
MFC1系統 (Ar) 1/4 SwagelokTM 又は VCRTM 接続
本体架台
キャスターアジャスター付き
サイズ
W540×D600 H1280 (コネクター部分等を除く)
重量
約100kg
用力 電力
AC200V 単相 20A)
用力 プロセスガス
Ar (1/4 SwagelokTM 又は 1/4 VCRTM)
用力 窒素ガス (パージ用)
0.05~0.1 MPa (1/4 SwagelokTM 又は 1/4 VCRTM)
カソード ターゲットサイズ
2インチ
カソード ターゲット材質
各種 メカニカルチャック方式 又は ボンディング方式
カソード 冷却方法
水冷式 (チラーを搭載)
カソード 電源
DC出力 500W 又は RF出力 300W
型番
SS-DC RF301シリーズ
小型スパッタ装置 SS-DC RF301取扱企業
アリオス株式会社カテゴリ
もっと見る
スパッタリング装置の製品102点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
商品画像 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | リーク量 | 排気系 | 真空計 | 基板ステージ | 基板加熱温度 | 基板上下機構 | カソード | ガス供給系 | 本体架台 | サイズ | 重量 | 用力 電力 | 用力 プロセスガス | 用力 窒素ガス (パージ用) | カソード ターゲットサイズ | カソード ターゲット材質 | カソード 冷却方法 | カソード 電源 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
要見積もり | 3×10^-4 Pa以下 | 1×10^-8 Pa・m^3/sec以下 (Oリング透過分を除く) | TMP+ダイヤフラムポンプ | フルレンジ真空計 (コールドカソード+ピラニゲージ) | 2インチ対応ステージ | MAX 500℃ (オプションでMAX 800℃ にも対応可能) | ストローク 100mm 手動操作 Oリング軸シール | マグネトロンカソード | MFC1系統 (Ar) 1/4 SwagelokTM 又は VCRTM 接続 | キャスターアジャスター付き | W540×D600 H1280 (コネクター部分等を除く) | 約100kg | AC200V 単相 20A) | Ar (1/4 SwagelokTM 又は 1/4 VCRTM) | 0.05~0.1 MPa (1/4 SwagelokTM 又は 1/4 VCRTM) | 2インチ | 各種 メカニカルチャック方式 又は ボンディング方式 | 水冷式 (チラーを搭載) | DC出力 500W 又は RF出力 300W |
スパッタリング装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が研究開発の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます