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スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT-株式会社真空デバイス

株式会社真空デバイスの対応状況

返答率

100.0%

返答時間

40.2時間

型番説明

・この装置は電子顕微鏡などの試料に導電膜処理を施す装置です。 ・ターゲットは大きい試料もそのままコーティング可能な4インチサイズ。 ・アルゴンガス等の導入・圧力調整機能を装備しています。膜純度の向上に活躍。 ・マニュアル・調整操作は右から左へ順にスイッチを押していくだけの使いやすいレイアウト。押し間違えても作動しない誤動作防止機能付きで、複数人の使用でも安心してお使いいただけます。 ・調整・条件出し完了後は、中央のオートコントロールスイッチを押すだけ。 ・排気速度と放電条件のバランスを重視して、2系統の排気管を自動制御。 ・イオンダメージに弱いサンプル・熱ダメージに弱いサンプルにコーティングするため、ターゲットにマグネトロン方式を採用。 ・ターゲット金属板 (Au-Pd) を標準で付属。ご希望のターゲットに変更可能です。 (但し、購入価格は標準仕様時と異なります。)

全型番で同じ値の指標

ターゲット

φ100 m mマグネトロン方式

ターゲット金属(厚さ0.1mm)

Au-Pd(標準)、Au、Pt、Pt-Pd、Pd、Ag(板厚0.5mm)

印加電圧/電流

電圧DC0~500V/電流DC0~200mA

試料ステージ

φ100mmアース電位

ターゲット-試料間隔

50mm

試料サイズ

直径≦φ100mm、高さ:≦30 m m

チャンバーサイズ

内径149mmx深さ82mm

タイマー

OMRON社製電子タイマー

排気系

外置きRP50ℓ/min15kg

到達真空度

1(Pa)以下

雰囲気ガス導入

1/4’導入パイプ、0.05MPa以下使用。

安全対策

系統別フューズ、上蓋開放感知センサー

装置サイズ本体

W350mm×H350mm×D440mm、21kg

電源

AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用3m

この製品について

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 電子顕微鏡用途では主に金、白金といった貴金属が使われます。また、そのほかの金属ターゲットをスパッタできる上位機種もラインナップしております。

  • 型番

    MSP-20-MT

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スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT MSP-20-MTの性能表

商品画像 価格 (税抜) ターゲット ターゲット金属(厚さ0.1mm) 印加電圧/電流 試料ステージ ターゲット-試料間隔 試料サイズ チャンバーサイズ タイマー 排気系 到達真空度 雰囲気ガス導入 安全対策 装置サイズ本体 電源
スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT-品番-MSP-20-MT 要見積もり φ100 m mマグネトロン方式 Au-Pd(標準)、Au、Pt、Pt-Pd、Pd、Ag(板厚0.5mm) 電圧DC0~500V/電流DC0~200mA φ100mmアース電位 50mm 直径≦φ100mm、高さ:≦30 m m 内径149mmx深さ82mm OMRON社製電子タイマー 外置きRP50ℓ/min15kg 1(Pa)以下 1/4’導入パイプ、0.05MPa以下使用。 系統別フューズ、上蓋開放感知センサー W350mm×H350mm×D440mm、21kg AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用3m

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処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

40.2時間

会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開して...

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  • 本社所在地: 茨城県

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