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返答率
100.0%
返答時間
24.9時間
標準アノード
Al/Mg蒸着膜
消費電力
Mg/400W Al/600W
クロストーク
＜0.35％
Z方向移動、ティルト (オプション)
50、75、100mm
ベイク温度
250℃以下
必要水冷値
水圧：4.5~5bar 流量：≥2.5L/分
型番
RS40B1シリーズ
ソース X線源 RS40B1取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
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スパッタリング装置の製品125点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 標準アノード | 消費電力 | クロストーク | Z方向移動、ティルト (オプション) | ベイク温度 | 必要水冷値 |
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要見積もり | Al/Mg蒸着膜 |
Mg/400W Al/600W |
＜0.35％ | 50、75、100mm | 250℃以下 |
水圧：4.5~5bar 流量：≥2.5L/分 |
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使用用途が材料分析の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
