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イオンスパッタ装置 G20-ハイソル株式会社

ハイソル株式会社の対応状況 返信の比較的早い企業

返答率

100.0%

返答時間

26.7時間

全型番で同じ値の指標

外形寸法

350×210mm (H230mm)

本体重量

10kg

電源

110V±10%、50/60Hz

イオン電流

1~10mA (1mA / step)

スパッタ処理時間

1~600秒 (1sec / step) ※10mA 100秒で約15nmの成形

ターゲット材質

Au, Ag, Pt (50mmφ / 99.99%)

チャンバーサイズ

140mmφ (H100mm)

対応サンプルサイズ

50mmφ (H30mm)

この製品について

■不活性ガスを一切使用せず低電流で簡単スパッタリング

導電性のない試料のSEM観察を行う際など、試料表面の帯電防止用コーティングに最適な卓上型のスパッタリング装置です。洗練されたコンパクトなデザインとタッチパネルを採用したシンプルなUIが快適な操作性をお約束致します。

■概要

・不活性ガス不要 ・ワンタッチで真空引きからコーティングまで実行 ・条件はライブラリーへ保存 (最大10個) ・サンプルは最大7個まで同時加工 ・低電流によるサンプルへのダメージ軽減 ・Au,Ag,Ptによる成形 (最大50mmφ) ・本体+ポンプ+ターゲット1枚のセットで即日使用可能

  • 型番

    G20

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イオンスパッタ装置 G20 G20の性能表

商品画像 価格 (税抜) 外形寸法 本体重量 電源 イオン電流 スパッタ処理時間 ターゲット材質 チャンバーサイズ 対応サンプルサイズ
イオンスパッタ装置 G20-品番-G20 要見積もり 350×210mm (H230mm) 10kg 110V±10%、50/60Hz 1~10mA (1mA / step) 1~600秒 (1sec / step)
※10mA 100秒で約15nmの成形
Au, Ag, Pt (50mmφ / 99.99%) 140mmφ (H100mm) 50mmφ (H30mm)

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フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

26.7時間

会社概要

ハイソル株式会社は、半導体、車載デバイス、センサー、LD・LED分野で、輸入製品の販売、及び、各種製造装置の開発・設計・製作・販売を行っている企業です。所在地は東京都台東区です。 1967年に、ウエスト・ボンド社製ワイヤ...

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  • 本社所在地: 東京都

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