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ロードロック式高周波マグネトロン3層スパッタリング装置 STNTRON HSR-351シリーズ-三弘エマテック株式会社

三弘エマテック株式会社の対応状況

返答率

100.0%

返答時間

38.3時間

全型番で同じ値の指標

メーカー

島津産機システムズ (株)

形成膜

金属、絶縁物等

膜厚分布

回転時⇒Φ100mmエリア±5%、静止時⇒Φ40mmエリア±10%

スパッタ方式

デポアップ

電極間距離

70~110mm

ターゲットホルダー

2インチ 3基

基板サイズ

回転時⇒Φ150mm、静止時⇒Φ50mm

基板取付枚数

1枚

回転数

MAX20rpm

ヒーター

MAX300℃ (基板表面)

主ポンプ

油拡散真空ポンプ (DP)

補助ポンプ

油回転真空ポンプ (RP)

到達圧力

10-4Pa台

ガス導入系

Ar-マスフローコントローラー (MFC) 1系統

高周波電源

13.6MHz 200W

冷却水 温度

5~25℃

冷却水 流水

6L/min

冷却水 圧力

0.2~0.3MPa・G

スパッタ用Arガス

0.1~0.2MPa・G

チャンバーリーク用N2ガス

0.1~0.2MPa・G (空気でも可)

ポンプリーク用N2ガス

0.02MPa・G (空気でも可)

圧空

0.4~0.5MPa・G

ポンプ排気 許容排気口圧力

20kPa・G以下

電源

AC200V、3Φ、60Hz、5KVA

アース

Aタイプ

到達圧力 ロードロック室

6.7Pa

到達圧力 スパッタ室

10-4Pa台

この製品について

■製品説明

大学や研究所等での研究開発用途に最適な装置となります。また、多品種少量生産にも最適です。 装置の状態・各種パラメータがタッチパネルで設定・確認ができ視認性・操作性が各段に良くなりました。操作性:セミオート機能⇒ロードロック室から基板の投入・取出までの一連の捜査が簡単です。成膜補助機能⇒・成膜時間パラメータでスパッタ後の放電停止・ガス弁閉を自動運転。スパッタ処理時間を前もって設定ができ、作業者が常についていなくとも放電切り忘れ、ガス弁閉め忘れによる無駄な経費を削減します。 安全性:インターロックによる誤操作防止、アラーム機能による安全確保、異常処置内容が表示され復旧作業をサポート、異常履歴で発生日時を記憶メンテナンス性:ユーザーの装置稼働状況に合わせて、効率よくメンテナンスを行っていただくために任意に設定が行えるようメンテナンスパラメータを装備しています。

■特徴

・低価格にて高性能で使いやすい製品です。 ・基板回成膜時:膜厚分布±5%以下 (Φ100mm内) ・基板静止時:膜厚分布±10%以下 (Φ40mm内) ・ロードロック室装備で、サイクルタイムを短縮 ・液晶タッチパネルで画面の視認性および操作性向上 ・真空排気・基板搬送・放電タイマーの自動化 ・装置改造、展開にも柔軟に対応

  • 型番

    HSR-351

企業レビュー 5.0

Metoree経由で見積もり

2024年9月6日にレビュー済み

顧客対応への満足度

迅速な回答、説明があった。

初回対応までの時間への満足度

27.47時間


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ロードロック式高周波マグネトロン3層スパッタリング装置 STNTRON HSR-351シリーズ HSR-351の性能表

商品画像 価格 (税抜) メーカー 形成膜 膜厚分布 スパッタ方式 電極間距離 ターゲットホルダー 基板サイズ 基板取付枚数 回転数 ヒーター 主ポンプ 補助ポンプ 到達圧力 ガス導入系 高周波電源 冷却水 温度 冷却水 流水 冷却水 圧力 スパッタ用Arガス チャンバーリーク用N2ガス ポンプリーク用N2ガス 圧空 ポンプ排気 許容排気口圧力 電源 アース 重量 設置面積 オプション
ロードロック式高周波マグネトロン3層スパッタリング装置 STNTRON HSR-351シリーズ-品番-HSR-351 要見積もり 島津産機システムズ (株) 金属、絶縁物等 回転時⇒Φ100mmエリア±5%、静止時⇒Φ40mmエリア±10% デポアップ 70~110mm 2インチ 3基 回転時⇒Φ150mm、静止時⇒Φ50mm 1枚 MAX20rpm MAX300℃ (基板表面) 油拡散真空ポンプ (DP) 油回転真空ポンプ (RP) 10-4Pa台 Ar-マスフローコントローラー (MFC) 1系統 13.6MHz 200W 5~25℃ 6L/min 0.2~0.3MPa・G 0.1~0.2MPa・G 0.1~0.2MPa・G (空気でも可) 0.02MPa・G (空気でも可) 0.4~0.5MPa・G 20kPa・G以下 AC200V、3Φ、60Hz、5KVA Aタイプ 480Kg W1,930mm×D1,100mm×H1,650mm

オイルミストトラップ、液体窒素トラップ、逆スパッタ機構


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処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室 クラスター式 インライン式 ロードロック式 トレイ搬送方式

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

38.3時間


企業レビュー

5.0

会社概要

三弘エマテック株式会社は、1975年に設立された、真空機器、装置等の販売を行う企業です。 「真空技術」を軸とした、ポンプや分析機器、理化学機械を取り扱います。取り扱うメーカーは200社以上あり、顧客のニーズに合わせた製...

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  • 本社所在地: 愛知県

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