メーカー 19社
製品 32点

メーカー 19社製品 32点

半導体洗浄装置
メーカー19社・32製品【2024年】

半導体洗浄装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、半導体洗浄装置のメーカー19社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。半導体洗浄装置関連企業の2024年11月注目ランキングは1位:HUGパワー株式会社、2位:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ、3位:株式会社ダン科学となっています。

半導体洗浄装置とは？
半導体洗浄装置のメーカー19社
半導体洗浄装置32製品

半導体洗浄装置の関連キーワード

半導体製造装置

半導体洗浄装置とは

半導体洗浄装置とは、半導体製造工程の1つである洗浄工程に用いられる装置の総称です。

洗浄工程は半導体製造工程全体の30〜40％を占める重要な工程です。高温処理工程や薄膜形成工程の前に十分に汚れを除去する前処理としての洗浄と、酸化膜・薄膜を削るエッチング工程の後にレジスト残滓物などを除去する後工程としての洗浄があります。

半導体洗浄装置は、薬液や純水を使用するウェット洗浄装置と薬液を使用しないドライ洗浄装置に大別されます。

半導体洗浄装置の使用用途

半導体洗浄装置は、半導体製造工場の各種工程で使用されます。シリコンウェハ上に半導体素子を形成する前工程でも素子を切り離し、パッケージ化して最終製品を製造する後工程でも使われます。

特に前工程では、ウェハ表面の汚染物質や付着物が半導体の品質や歩留まりに与える影響が非常に大きいです。そのため、ウェハ上に酸化膜・薄膜を形成する工程の前、成膜工程の後、エッチング工程の後など、非常に多くの段階で半導体洗浄装置が使われています。

半導体洗浄装置の原理

半導体製造の前工程では、半導体洗浄装置を使ってウェハ表面についた汚れを徹底的に除去する必要があります。具体的には高温処理でウェハ表面に酸化膜を形成する酸化工程の前、ウェハを薄膜材料のガスにさらして成膜するCVD工程の前後、放電によってイオン化した薄膜材料をウェハ表面に当てて成膜するスパッタリング工程の前後などです。

洗浄が十分でないと不良品の発生率が上がり、品質やコストに悪影響を与えます。薬剤を使用するウェット洗浄装置では一度に複数種類の薬剤を使えないため、1種類の薬液を用いてウェハを洗浄した後に純水で洗浄してから次の薬液槽にウェハを浸します。また、洗浄が終わった後にはウェハを乾燥させるプロセスも必要です。

半導体洗浄装置の種類

洗浄方式によって、半導体洗浄装置はバッチ式と枚葉式の2種類に分類できます。洗浄の処理方法ではドライ式とウェット式に分けられます。

1. 洗浄方法による分類

バッチ式
複数枚のウェハを同時に処理槽に浸して洗浄します。薬液の種類によって多槽式と単槽式に分類可能です。多槽式では処理槽を準備して順番に浸漬し、単槽式では1つの槽だけで薬液を入れ替えて洗浄します。

枚葉式
ウェハを1枚ずつ洗浄します。ウェハを回転させて処理液をノズルで吹き付けて洗浄します。

2. 洗浄の処理方法による分類

ウェット式
液体の薬液を洗浄に用いる方式です。

ドライ式
オゾンやアルゴンエアロゾルのような非液体で洗浄します。

半導体洗浄装置の構造

1. 多槽バッチ式

順番に浸漬し、洗浄とリンスを繰り返して処理可能です。一度に多量のウェハを処理できますが、装置が大きく、薬液の使用量が増えます。

2. 単槽バッチ式

処理槽を1個だけ使います。薬液を入れ替えて洗浄シークエンスを構築し、多槽式の欠点を補ったバッチ式です。比較的省スペースでウェハを大量に処理できます。処理ごとに薬液を入れ替える必要があり、薬液の使用量は多いです。

3. 枚葉式

薬液をウェハ1枚ずつに吹き付けて高速で回転させて洗浄します。省スペースで薬液の使用量が少なく処理液の汚染がありません。ただし、ウェハを回転させるため、薬液が飛散して回収や再利用は難しいです。

半導体洗浄装置の選び方

洗浄工程で対象となる汚れには、各種対応した洗浄方法があります。汚れの具体例はパーティクルと呼ばれる微細なゴミ、人の汗などに含まれるナトリウム分子や油脂成分、工場内で使われる薬剤に含まれる炭素分子などの有機物や金属原子などです。

1. パーティクル

パーティクルの除去のために、ブラシなどを使う物理的洗浄やアルカリ性薬品を用いたウェット洗浄が行われます。

2. 有機汚染物

有機汚染物の除去には酸性薬品やオゾン水を用いたウェット洗浄装置のほか、プラズマクリーナや紫外線オゾンクリーナーなどのドライ洗浄装置を使用可能です。

3. 金属汚染物

金属汚染物の除去のために酸性薬品によるウェット洗浄が行われます。

半導体洗浄装置のカタログ10件をまとめてダウンロードできます！

半導体洗浄装置のカタログ10件をまとめてダウンロードできます！

大気圧プラズマ装置でのダイレクト接着　接合　５G 　６G　フッ素樹脂　LCPのカタログ

大気圧プラズマにおける表面機能化アプリケーションとその装置　親水化　接合　のカタログ

【カタログ】半導体クラス100対応・除塵エアーノズル「エアースクリューノズル」のカタログ

半導体洗浄装置メーカー 19社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

半導体向け蒸気2流体洗浄装置ASTE（アステ）注目製品
HUGパワー株式会社

エッチング後のレジストやポリマ除去
ウェハ上の異物除去に有効

特徴として
・用力は電気と水のみ
・Au膜のリフトオフも可能
・ランニングコストを大幅に削減
・高価なアミン系剥離剤がいらない

半導体洗浄装置一覧（枚葉式、バッチ式、ブラシ式）注目製品
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

【業界シェアNo.1】 ※当社調べ
・世界最高レベルの生産性と優れた洗浄品質を提供
・環境負荷低減への取り組み（排気、ガス、薬液の使用量削減）
・IoT技術による装置稼働状況の管理
・薄ウエハや化合物ウエハへの対応

300mmウェハカセットレス洗浄装置注目製品
株式会社ダン科学

☆ 50枚搬送により、高スループットを実現
☆ 国内外に多数の納入実績有
☆ 超音波槽に独自のウェハ回転機構搭載可（特許取得済）
☆ ウェットイン➡ドライアウト(Pre Cleaner)
　ドライイン➡ドライアウト(Final Cleaner)双方対応可能
☆ 洗浄工程はお客様仕様にフルカスタム設計

【半導体洗浄装置】特許取得済み SiC / GaN / GaO3 / Si / LT / LN に対応注目製品
株式会社ゼビオス

◾️LT / LN 出荷用の洗浄で国内シェア多数！
◾️表裏・端面同時洗浄
◾️スクラブ洗浄と機能水・薬液を使い分ける事により、ナノレベル洗浄に対応
◾️ユーティリティ設備の削減
◾️業界初１チャンバーで多品種・多目的洗浄に対応

ウェーハ製造工程向け研磨後洗浄装置　SC300-CC series 注目製品
芝浦メカトロニクス株式会社

オゾン水と希フッ酸の交互処理により、洗浄後におけるウェーハ表面を厳密に制御することで表面粗れを抑制し、処理室内に生じるミスト影響を抑制する構造により、高い洗浄性能と安定性を実現しています。各社の研磨装置とドッキング可能で累計220台以上の実績から先端用途のウェーハ製造に貢献致します。

- - HUGパワー株式会社
    半導体蒸気2流体洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2012年従業員数: 9人資本金: 71,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市緑区長津田町4259番　東京科学大学J3研究棟409
- HUGパワー株式会社は「蒸気2流体」及び「高濃度オゾン水」など機能水を利用した、化学薬品に頼らない洗浄装置の販売とそのコアモジュールの開発・設計を主業務としております。
- - 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
    半導体洗浄装置一覧（枚葉式、バッチ式、ブラシ式）
  - 会社サイト創業: 2006年資本金: 310,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1
- 環境負荷低減世界レベルの生産性優れた洗浄品質の提供
  
  進化をとげる、世界シェアNo.1*洗浄装置　*当社調べ
  
  80年の歴史と最先端の技術を京都から世界へ
  先進のテクノロジーとイノベーションをお客さまにお届けし、豊かで明るい未来社会の実現に貢献してまいります
- - 株式会社ダン科学
    ３００mmウェハカセットレス洗浄装置、ＰＦＤ洗浄装置、精密部品洗浄装置
  - 会社サイト創業: 1959年従業員数: 35人資本金: 48,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都東京都八王子市美山町2161-5
- 創業当初より、秒速で進化していく電子産業界が求める厳しい精密性と高い信頼性に応えるため、スーパークリーンな環境で各種洗浄装置・空気清浄装置などの開発・製造から検査までを一貫して自社で行います。
- - 株式会社ゼビオス
    【特許取得済み】スクラブ洗浄装置一覧
  - 会社サイト創業: 1995年会社詳細
  - 住所: 埼玉県入間市中神508−2
- 環境に優しい特許取得
  
  ゼビオスは、液晶・半導体装置関連のニーズとシーズを捉え、提案型の装置設計、製造を目的として設立された会社です。
- - 芝浦メカトロニクス株式会社メーカー
    ウェーハ製造工程向け研磨後洗浄装置　SC300-CC series
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1939年従業員数: 1,211人資本金: 6,761,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市栄区笠間2-5-1
- 仕様の多彩な選択肢ベベル部の洗浄対応ウェーハ製造に最適
  
  半導体・FPD製造装置の前後工程を手掛ける企業です。高い技術力・独自性を持つグローバルニッチトップ製品を中心に豊富な実績を有し、コア技術を強みに製品開発から保守サービスまでトータルサポートします。
- - 株式会社SCREENホールディングスメーカー
    FC-3100
  - 会社サイト創業: 1943年従業員数: 6,074人会社詳細
  - 住所: 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1
- - 三益半導体工業株式会社メーカー
    MC3000シリーズ
  - 会社サイト創業: 1969年従業員数: 1,105人会社詳細
  - 住所: 群馬県高崎市保渡田町2174番地1
- - ダイキンファインテック株式会社メーカー
    半導体洗浄装置/MEMS洗浄装置一覧
  - 会社サイト創業: 1956年従業員数: 265人資本金: 66,000,000円会社詳細
  - 住所: 奈良県大和郡山市今国府町6番2号
- - タツモ株式会社メーカー
    枚葉式エッチング・洗浄システムCENOTE
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1972年従業員数: 354人会社詳細
  - 住所: 岡山県岡山市北区芳賀5311
- - サムコ株式会社メーカー
    ドライ洗浄装置一覧
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1979年従業員数: 173人資本金: 1,663,687,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市伏見区竹田藁屋町36番地
- - 株式会社スリーダイン
    シリコンウエーハ洗浄装置
  - 会社サイト創業: 1993年従業員数: 50人資本金: 20,000,000円会社詳細
  - 住所: 熊本県八代市郡築三番町82-1
- - 株式会社エムテーシー
    洗浄装置
  - 会社サイト創業: 1982年資本金: 100,000,000円会社詳細
  - 住所: 埼玉県さいたま市大宮区桜木町4丁目705番1
- - 株式会社MTK
    枚葉式洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2007年会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市金沢区鳥浜町12番64 YPC研究棟2階
- - 株式会社JET
    半導体洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2009年会社詳細
  - 住所: 岡山県浅口郡里庄町新庄金山6078
- - フロントラインテクノロジー株式会社
    洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2011年会社詳細
  - 住所: 神奈川県川崎市高津区千年80-2千年大藤ビル2F
- - テクノワールド株式会社
    シリコンウエハー洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2002年従業員数: 41人資本金: 15,000,000円会社詳細
  - 住所: 栃木県佐野市赤坂町963-7番地
- - ダイキンファインテック株式会社
    半導体洗浄装置
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 奈良県大和郡山市今国府町6番2号
- - PHT株式会社
    半導体洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2015年従業員数: 119人資本金: 65,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都北区赤羽2丁目69番2号
- - JAPAN BLUE株式会社
    半導体洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2008年会社詳細
  - 住所: 京都府木津川市吐師中ノ中条52番地
- - 入江株式会社商社・代理店
    半導体洗浄一覧
  - 会社サイト創業: 1919年従業員数: 82人資本金: 45,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都中央区日本橋本町4-5-14

半導体洗浄装置 2024年11月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

2024年11月の注目ランキングベスト10

注目ランキング導出方法

順位	会社名	クリックシェア
1	HUGパワー株式会社	19.4%
2	株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ	13.2%
3	株式会社ダン科学	11.8%
4	芝浦メカトロニクス株式会社	7.2%
5	株式会社ゼビオス	6.9%
6	株式会社JET	6.7%
7	PHT株式会社	4.4%
8	サムコ株式会社	3.9%
9	ダイキンファインテック株式会社	3.9%
10	タツモ株式会社	3.2%