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画像処理用照明のメーカー22社一覧や企業ランキングを掲載中！画像処理用照明関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:株式会社ユーテクノロジー、2位:株式会社近藤製作所、3位:レボックス株式会社となっています。 画像処理用照明の概要、用途、原理もチェック！
画像処理用照明とは、画像処理において撮影対象物や撮影環境を適切に照らすために使用される照明です。
画像処理では撮影された画像から情報を抽出し、解析や特定の目的に応じた処理を行います。そのため、照明条件が画像品質の取得に大きな影響を与える重要な要素です。画像処理用照明を使用することで、適切な照明条件を得られ、画像の品質が向上します。均一な照明を提供することで、撮影対象物の詳細な情報を抽出しやすくなります。
また、特定の特徴を強調するための照明が使用されることで、欠陥や重要な部分を視覚的に際立たせることが可能です。これにより、不良品検査や品質管理などで重要な役割を果たします。
ただし、撮影対象物や撮影環境に応じて適切な照明を選定することが重要です。特定の応用用途に適した照明を使用しないと、画像品質や解析結果に悪影響を及ぼす可能性があります。
2025年5月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社ユーテクノロジー |
16.1%
|
| 2 | 株式会社近藤製作所 |
12.6%
|
| 3 | レボックス株式会社 |
11.5%
|
| 4 | エスブライト株式会社 |
6.9%
|
| 5 | バスラー・ジャパン株式会社 |
6.9%
|
| 6 | 株式会社レイマック |
5.7%
|
| 7 | シーシーエス株式会社 |
5.7%
|
| 8 | 有限会社シマテック |
4.6%
|
| 9 | エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 |
4.6%
|
| 10 | パナソニック株式会社 |
3.4%
|
15 点の製品がみつかりました
15 点の製品
株式会社ユーテクノロジー
600人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
7.5時間 返答時間
■特徴 ・超小型 ・集光光学系の選択可能 ・高性能な集光光学系を設計【特許取得済】 ・AC入力タイプも製作可能 (UFLS-75AC) ■高性能な...
株式会社仲久
150人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
返信の比較的早い企業
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23.0時間 返答時間
■特徴 光線制御方式にコリメート光を採用。ワーキングディスタンス可変。X-Y2軸で照射することにより、検出感度の向上を実現。大型のワ...
株式会社シバサキ
190人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信の比較的早い企業
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31.6時間 返答時間
■商品説明 ・汎用性を重視したラインセンサカメラ用LED照明、共通筺体で3種類の配光を実現 ・基本性能はそのままに大幅コストダウンを実...
株式会社仲久
160人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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コリメートタイプの暗視野照射器です。 ■用途 透明ワークや鏡面反射ワークに照射し、傷・異物などから発する異常反射光を検出。微小な...
株式会社仲久
120人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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23.0時間 返答時間
■特徴 ・WD=0~100mm、照射エリアφ20mm ・照射範囲内で一定の光線角度を維持 ・高周波PWM点灯とストロボ発光の電源を標準設定 ・テレセン...
株式会社シバサキ
200人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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31.6時間 返答時間
■商品説明 ・ラインセンサカメラ用UV照明。自然空冷と大光量による汎用性を実現 ・密閉筺体×自然空冷＝耐環境UV照明 ・アルミ筺体の放熱...
株式会社サカキコーポレーション
260人以上が見ています
返信のとても早い企業
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■イメージング用レーザー Z-LASER社のイメージング用レーザーは、構造化照明として多くの画像処理システムで使用されています。レーザー...
株式会社サカキコーポレーション
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■イメージング用レーザー Z-LASER社のイメージング用レーザーは、構造化照明として多くの画像処理システムで使用されています。レーザー...
株式会社サカキコーポレーション
120人以上が見ています
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■イメージング用レーザー Z-LASER社のイメージング用レーザーは、構造化照明として多くの画像処理システムで使用されています。レーザー...
ハヤシレピック株式会社
700人以上が見ています
100.0% 返答率
73.2時間 返答時間
低発熱で高輝度なLEDを採用したマシンビジョン用照明です。FAラインの検査工程､画像処理分野で活躍します。 ■特長 ・汎用性のある間接...
ハヤシレピック株式会社
400人以上が見ています
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73.2時間 返答時間
低発熱で高輝度なLEDを採用したマシンビジョン用照明です。FAラインの検査工程､画像処理分野で活躍します。 ■特長 ・汎用性のある間接...
ハヤシレピック株式会社
510人以上が見ています
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73.2時間 返答時間
低発熱で高輝度なLEDを採用したマシンビジョン用照明です。FAラインの検査工程､画像処理分野で活躍します。 ■特長 ・汎用性のある間接...
株式会社シバサキ
150人以上が見ています
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■商品説明 ・微細な欠陥を見逃さない。無地素材検査専用ライン照明 ・高均一照射×長期安定＝フィルム・素材検査専用ライン照明 ・独自の...
株式会社シバサキ
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
31.6時間 返答時間
■商品説明 ・微細な欠陥を見逃さない。無地素材検査専用ライン照明 ・高均一照射×長期安定＝フィルム・素材検査専用ライン照明 ・独自の...
画像処理用照明とは、画像処理において撮影対象物や撮影環境を適切に照らすために使用される照明です。
画像処理では撮影された画像から情報を抽出し、解析や特定の目的に応じた処理を行います。そのため、照明条件が画像品質の取得に大きな影響を与える重要な要素です。画像処理用照明を使用することで、適切な照明条件を得られ、画像の品質が向上します。均一な照明を提供することで、撮影対象物の詳細な情報を抽出しやすくなります。
また、特定の特徴を強調するための照明が使用されることで、欠陥や重要な部分を視覚的に際立たせることが可能です。これにより、不良品検査や品質管理などで重要な役割を果たします。
ただし、撮影対象物や撮影環境に応じて適切な照明を選定することが重要です。特定の応用用途に適した照明を使用しないと、画像品質や解析結果に悪影響を及ぼす可能性があります。
画像処理用照明は、さまざまな用途で使用されます。以下は代表的な使用用途の一例です。
工業分野において、製造された製品や部品の品質を保証するために画像処理が利用されます。例えば、電子機器の製造において、外観や寸法の欠陥を検出するために製品を撮影して画像処理を行うことも多いです。
適切な照明を使用することで、製品表面の欠陥や傷を明確に可視化して異常を検知することが可能です。欠陥が検出された場合は自動的に不良品として分類し、不適切な製品を排除することができます。
ロボティクスや自動化の分野では、画像処理を用いた自動認識システムが幅広く利用されています。バーコードやQRコードの読み取りや顔認識など、さまざまな自動認識用途で画像処理用照明を活用することが可能です。適切な照明条件を使用することでシステムの精度や信頼性を向上させ、高速で正確な認識を実現します。
医療分野では、X線やCTスキャンなどの画像処理において照明条件が重要です。例えば、X線撮影では被写体に適切な透過率を提供するためのX線管照明が使用されます。MRIやCTスキャンでは、画像のコントラストを向上させるための適切な照明が重要です。
照明を適切に調整することで、病変の視覚的な特徴をより鮮明に捉え、正確な診断や治療計画の立案に役立ちます。
画像処理用照明の原理は、撮影対象物を適切に照らすことによってカメラが良質な画像を取得できるようにすることです。照明の均一性や色温度、方向性などが重要となります。
画像処理では撮影対象物の全体が均一に照らされていることが重要です。均一な照明を提供することで、撮影対象物の表面に生じる陰影や光の反射を最小限に抑えることが可能です。結果として、画像のコントラストを向上させることができます。
また、照明の色温度は画像の色合いに影響を与えます。特定の色温度の照明を使用することで、画像の色合いを調整することが可能です。また、画像処理では撮影時の照明条件によって色再現性が影響を受けるため、照明の一貫性を保つ必要があります。
照明の方向性も撮影対象物の表面の特徴を強調するために、重要な要素です。光源の角度調整によって、陰影や凹凸の特徴を明確に表現することが可能です。また、特定の方向からの光を反射させることで、撮影対象物の詳細な情報を取得できます。
画像処理用照明を選ぶ際には、撮影対象物の特性や電力要件、安定性などを考慮します。
照明の選択は、撮影対象物の特性に合わせて行うことが必要です。撮影対象物の色や形状、表面の仕上げなどが重要な要素です。対象物によっては特定の波長の光を使用したり、特殊な照明器具を必要としたりする場合があります。
画像処理用照明は電力を消費するため、電力要件を考慮する必要があります。また、一部の高出力照明器具は冷却が必要な場合も多いです。
照明の安定性は、画像の品質に影響を与えます。安定した光源を持つ照明器具を選択することが望ましいです。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/denkiseiko/79/4/79_4_299/_pdf/-char/ja
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsmehs/2002.39/0/2002.39_189/_pdf/-char/ja
