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アニール炉のメーカー30社一覧や企業ランキングを掲載中！アニール炉関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:株式会社タナベ、2位:中日本炉工業株式会社、3位:テルモセラ・ジャパン株式会社となっています。 アニール炉の概要、用途、原理もチェック！
アニール炉とは、アニール加工を施すための大型の加熱装置のことです。金属や半導体、ガラスなど様々な材質を高温に熱することができます。アニールとは、物体を加熱することでその材質のゆがみを矯正したり安定性を高めたりする技術のことです。例えば、プラスチックを加熱することで結晶化を高めたり、金属を加熱することで硬度を均一にしたりしています。アニール炉は、産業用や研究用に様々な材料をアニール加工するために広く使われているのです。
2025年5月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社タナベ |
13.0%
|
| 2 | 中日本炉工業株式会社 |
9.3%
|
| 3 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
7.4%
|
| 4 | 小林工業株式会社 |
7.4%
|
| 5 | 株式会社三幸 |
5.6%
|
| 6 | アリオス株式会社 |
5.6%
|
| 7 | 株式会社菅製作所 |
5.6%
|
| 8 | 日本ガイシ株式会社 |
4.6%
|
| 9 | 株式会社エピクエスト |
4.6%
|
| 10 | ハイソル株式会社 |
4.6%
|
項目別
使用用途
#金属熱処理 #半導体プロセス #電子部品製造 #ガラス製造 #セラミックス製造温度範囲 ℃
100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,300 1,300 - 1,500 1,500 - 1,800昇温速度 ℃/sec
10 - 25 25 - 50 50 - 100 100 - 150降温速度 ℃/sec
10 - 50 50 - 100 100 - 15021 点の製品がみつかりました
21 点の製品
ハイソル株式会社
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26.3時間 返答時間
■スタンドアローン・長時間プロセス 8インチ対応 RTAシステム AccuThermoシリーズ高速熱処理装置は、強力な可視～赤外光照射により、最...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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最新の閲覧: 1日前
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株式会社ピクリング
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■特徴 ・ウェハサイズに合わせて、3種類のシステムをラインナップしました。 (4インチ/6インチ/8インチ) ・最高昇温速度200℃/秒、最高...
アリオス株式会社
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■装置概要 本装置は3"～8"基板及び、真空部品などを真空中で200～600℃まで加熱するための高真空加熱装置 (アニール炉) です。イオンビー...
ハイソル株式会社
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■国内販売実績 50台以上 研究開発に最適なベストセラーRTAシステム AccuThermoシリーズ高速熱処理装置は、強力な可視～赤外光照射によ...
ハイソル株式会社
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AccuThermoシリーズ高速熱処理装置は、強力な可視～赤外光照射により、最大1250℃、昇温速度150℃/secでウェハの加熱処理を行う赤外線ラン...
ハイソル株式会社
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AccuThermoシリーズ高速熱処理装置は、強力な可視～赤外光照射により、最大1250℃、昇温速度100℃/secでウェハの加熱処理を行う赤外線ラン...
アルバック販売株式会社
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■概要 冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。 ■用途 ・ウ...
アルバック販売株式会社
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■概要 太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の...
アルバック販売株式会社
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■概要 太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。VHCシリーズはQHCシリーズの機能に加えて真空排気系とピラニ真空計が搭載されてい...
アルバック販売株式会社
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■概要 2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を...
アルバック販売株式会社
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■概要 SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1,800℃まで昇温可能な卓上型超高...
アルバック販売株式会社
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■概要 最大6インチまでのランプアニール装置。個別半導体プロセスのシリサイド形成や化合物半導体のプロセスアニールが可能です。 ■用...
アルバック販売株式会社
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 1,800℃まで高速1分で昇温。コンパクトで1,800℃まで昇温可能な赤外線ゴールドイメージ炉です。ゾーンメルティングやSicパワーデバ...
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■概要 本装置は、試料寸法50mm角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm角までの加熱装置として、卓上型ラ...
アルバック販売株式会社
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■概要 小サンプルの研究開発に最適。高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。 自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロ...
株式会社エイチ・ティー・エル
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150umガスベアリングによる伝導熱アニールで、ランプ型放射熱アニールの問題を解決。 ■特長 ・900℃/秒の急速加熱、-300℃/秒の急速冷却...
株式会社エイチ・ティー・エル
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アニール炉とは、アニール加工を施すための大型の加熱装置のことです。金属や半導体、ガラスなど様々な材質を高温に熱することができます。アニールとは、物体を加熱することでその材質のゆがみを矯正したり安定性を高めたりする技術のことです。例えば、プラスチックを加熱することで結晶化を高めたり、金属を加熱することで硬度を均一にしたりしています。アニール炉は、産業用や研究用に様々な材料をアニール加工するために広く使われているのです。
アニール処理が必要となる材料は多いので、様々な場所でアニール炉は使用されています。
アニール炉には様々な過熱方法があります。熱風式や赤外線式など使用されていますが、ここでは性能の高い遠赤外線アニール炉についてご紹介します。
遠赤外線アニール炉とは遠赤外線の「輻射」という性質を利用して加熱されるアニール炉です。一般的な加熱方法としては、加熱対象に熱源を直接当てる方法や熱風を当てて暖める方法があります。しかし、どちらも対象に触れる必要があり、非接触での加熱ができませんでした。これらに比べて遠赤外線を使った方法では、物体に直接触れずに温度を上昇させることができます。
遠赤外線とは可視光よりも波長の長い電磁波のことです。遠赤外線を対象に照射することで、物体を構成する分子が振動して熱エネルギーを発生させます。この熱エネルギーによって物体が暖められるため、非接触で加熱が可能です。また、短時間で高温の状態を作り出すことができます。さらに、使用される遠赤外線の波長の違いによって加熱温度が変わり、加熱対象によって細かく使い分けができるという点でも優秀です。
参考文献
https://www.yumoto.jp/technology/onepoint/annealing-treatment
http://ecom-jp.co.jp/product/farinfrared.html
http://www.pbi-am.com/20190725-5883
