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R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ取扱企業
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 処理方法 | カソード方式 | カソード数 | 搭載電源 | 到達圧力 | 対応基板サイズ | 膜厚分布 | 基板加熱機構 | 排気系 | 最大ガス導入量 | ターゲットサイズ | チャンバーベーキング | 排気 | 成膜 | 電気 | 冷却水 | 圧縮空気 | アース |
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QAM-4C-S |
要見積もり | バッチ式 |
ロングスローマグネトロンスパッタリング ・ヘリコンスパッタ※1 ※オプション |
2インチカソード (磁性体、非磁性体共用) Max.4台まで搭載可能 |
DC500W 1台 ・DC500W、RF300W※2 を選択でき、Max.2台まで搭載可能 ※オプション |
1×10-4Pa以下 | Max.φ4インチ×1枚 | ±5%以内 (Al成膜時、基板回転併用) | ランプヒータ 常用400℃ ※オプション |
1) ターボポンプ 2) ロータリーポンプ ドライポンプ ※オプション |
1) Max.50sccm (Ar) 2) Max.10sccm (O2) 3) Max.10sccm (N2) |
φ2インチ | 110℃ベーク (チャンバー水冷込) ※オプション |
タッチパネル (PLCコントロール) 遠隔手動※3 全自動※4 ※3:タッチパネルからのマニュアル・セミオート動作 ※4:タッチパネルで電力・時間等レシピ入力可能 |
タッチパネル (PLCコントロール) 遠隔手動※3 全自動※4 ※3:タッチパネルからのマニュアル・セミオート動作 ※4:タッチパネルで電力・時間等レシピ入力可能 |
3φAC200V 50/60Hz | 20~28℃、比抵抗5KΩ以上、供給圧力 0.2~0.3MPa | 0.5~0.7MPa | A種、D種 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。