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低圧RFスパッタ装置 HVS-03-HVS-03
低圧RFスパッタ装置 HVS-03-株式会社エピクエスト

低圧RFスパッタ装置 HVS-03
株式会社エピクエスト

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この製品について

高真空対応のスパッタガンを用いることにより、10-2Pa台においても薄膜形成が可能です。最高5元までのスパッタガンの設置が可能です。

  • シリーズ

    低圧RFスパッタ装置 HVS-03

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低圧RFスパッタ装置 HVS-03 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 基板サイズ 加熱方式 加熱温度 基板回転機構 Z軸移動機構 低圧RFスパッタガン ターゲットサイズ RF制御電源 投入室 到達圧力 投入室 基板搬送
低圧RFスパッタ装置 HVS-03-品番-HVS-03

HVS-03

要見積もり

6.5×10^-6Pa

Φ3インチ×1枚

基板加熱方式

MAX.700℃

Max.20rpm

±20mm

2インチ 回転シャッター機構

300W、13.56MHz、オートチューニング式

6.5×10^-5Pa

手動トランスファーロッド方式

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スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

18.7時間

会社概要

株式会社エピクエストは2000年に設立し、主にMBE装置、MOCVD装置の開発、製造を行っている会社です。 MBEやMOCVD装置は、天然にない人工結晶を作製する技術であるエピキタシー技術を基盤としており、結晶を成...

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  • 本社所在地: 京都府

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