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研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き）-CFS-4EP-LL
研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き）-芝浦メカトロニクス株式会社

研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き）
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この製品について

■真空技術を応用した成膜装置を幅広い分野にご提供

電子部品をはじめ、各種デバイス、光学、自動車部品などの研究開発から量産まで幅広い分野に向けたスパッタリング装置を製造しています。

■研究開発用スパッタ装置における業界トップランナー

研究開発から多品種生産、少量生産まで様々な成膜用途にご使用いただけます。

■用途

半導体,電子部品,LED,LD,各種センサー,各種ウェーハ,MEMS他 代表的な成膜材料

■誘電体膜ほか

AlN, SiN, SiO2, ZrO, TiO2

■透明導電膜

ITO, ZnO

■金属膜ほか

Au, Ag, Cu, Si, Ti, Sn, Cr, Al, Ni, DLC 特長

■豊富な納入実績

大学、研究機関、各企業に多数納入し、最先端の研究分野で活躍しています

■全自動運転

レシピ設定を行うことにより、全自動運転が可能

■多彩なオプション

自動搬送機、ターゲット-基板間距離自動可変、同時スパッタ、バイアススパッタなどを用意

  • シリーズ

    研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き）

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研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き） 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理方式 スパッタ方式 テーブル スパッタ源 データ 同時スパッタ バイアススパッタ テーブル温調 ターゲット-基板間距離可変 自動供給機
研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き）-品番-CFS-4EP-LL

CFS-4EP-LL

要見積もり

ロードロック式

サイド

公転テーブル

最大4個 (常磁場・強磁場選択可)

データロガー

対応可

対応可

Max 600℃加熱／水冷

対応可

対応可

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スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室 クラスター式 インライン式 ロードロック式 トレイ搬送方式

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

芝浦メカトロニクス株式会社

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会社概要

芝浦メカトロニクス株式会社は、神奈川県横浜市に本社を置く、半導体、フラットパネルディスプレイ、電子部品などの用途を対象にした、製造装置の開発・製造及びサービスを行っている会社です。

前工程から後工程まで...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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