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研究開発用スパッタリング装置 CFS-4EP-LL/（自動搬送付き）取扱企業
芝浦メカトロニクス株式会社カテゴリ
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スパッタリング装置の製品119点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 処理方式 | スパッタ方式 | テーブル | スパッタ源 | データ | 同時スパッタ | バイアススパッタ | テーブル温調 | ターゲット-基板間距離可変 | 自動供給機 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
CFS-4EP-LL |
要見積もり |
ロードロック式 |
サイド |
公転テーブル |
最大4個 (常磁場・強磁場選択可) |
データロガー |
対応可 |
対応可 |
Max 600℃加熱／水冷 |
対応可 |
対応可 |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
