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多用途スパッタリング装置 CFS-12P-LL-90D / CFS-12P-90H-CFS-12P-LL-90D
多用途スパッタリング装置 CFS-12P-LL-90D / CFS-12P-90H-芝浦メカトロニクス株式会社

多用途スパッタリング装置 CFS-12P-LL-90D / CFS-12P-90H
芝浦メカトロニクス株式会社

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この製品について

■真空技術を応用した成膜装置を幅広い分野にご提供

電子部品をはじめ、各種デバイス、光学、自動車部品などの研究開発から量産まで幅広い分野に向けたスパッタリング装置を製造しています。

■様々な製品に対応し、優れたプロセス安定性を実現

独自の成膜方式により高均一性を実現。豊富な機能 (加熱・エッチング) により多彩な膜質制御が可能。

■用途

・LED (配線膜、電極膜、保護膜) ・各種センサー ・各種ウェーハ薄膜パターン形成 ・通信デバイス 特長

■高均一性

独自の成膜方式により高均一性を実現します。

■多彩なプロセスに対応

自動搬送機、ターゲット-基板間距離自動可変、同時スパッタ、バイアススパッタなどを用意しています。

■プロセス安定性 (CFS-12P-LL-90D)

ロードロック室 (カセット室) を有し、優れたプロセス安定性を実現します。

  • シリーズ

    多用途スパッタリング装置 CFS-12P-LL-90D / CFS-12P-90H

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多用途スパッタリング装置 CFS-12P-LL-90D / CFS-12P-90H 品番1件

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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会社概要

芝浦メカトロニクス株式会社は、神奈川県横浜市に本社を置く、半導体、フラットパネルディスプレイ、電子部品などの用途を対象にした、製造装置の開発・製造及びサービスを行っている会社です。

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  • 本社所在地: 神奈川県

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