独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置
ジャパンクリエイト株式会社
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この製品について
■特徴
・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・ワークステージに4軸機構 (昇降、公 転、自転、チルト) を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現 ・最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能■用途
・MEMS ・電子部品 ・光学部品 ・車載部品-
シリーズ
独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置
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取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社
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カテゴリ
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利用シーン
電子・電気機器業界用 / 化学業界用 / 自動車・輸送用機器業界用
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独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | ワークサイズ | スパッタカソード | スパッタ電源 | プロセスガス | ワークステージ | 真空排気 | 圧力制御 | 制御操作 | データロギング | ワーク取付 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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立体物用スパッタリング装置 |
要見積もり | 最大φ5インチ×高さ40mm。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。 | マグネトロン方式、ターゲットシャッタ | RFまたはDC | Ar、O2、N2、他 |
加熱温度：500℃ (ステージ表面) 自転：30rpm 公転：10rpm 昇降：40mmst チルト機構：±30° 基板バイアス (RFまたはDC) |
TMP+RP | APC制御 |
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 上蓋昇降旋回開閉式 | 基板冷却 (低温成膜) 、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、ドライポンプ、発光分析システム、Q-MASS など |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
