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独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置-立体物用スパッタリング装置
独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置-ジャパンクリエイト株式会社

独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置
ジャパンクリエイト株式会社

💻 電子・電気機器業界用 🧪 化学業界用 🚗 自動車・輸送用機器業界用

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この製品について

■特徴

・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・ワークステージに4軸機構 (昇降、公 転、自転、チルト) を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現 ・最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能

■用途

・MEMS ・電子部品 ・光学部品 ・車載部品

  • シリーズ

    独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置
  • 利用シーン

    電子・電気機器業界用 / 化学業界用 / 自動車・輸送用機器業界用

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独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ワークサイズ スパッタカソード スパッタ電源 プロセスガス ワークステージ 真空排気 圧力制御 制御操作 データロギング ワーク取付 オプション
独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置-品番-立体物用スパッタリング装置

立体物用スパッタリング装置

要見積もり

最大φ5インチ×高さ40mm。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。

マグネトロン方式、ターゲットシャッタ

RFまたはDC

Ar、O2、N2、他

加熱温度:500℃ (ステージ表面)
自転:30rpm
公転:10rpm
昇降:40mmst
チルト機構:±30°
基板バイアス (RFまたはDC)

TMP+RP

APC制御

制御:PLC
操作:タッチパネルまたはPC

外部メモリまたはPC

上蓋昇降旋回開閉式

基板冷却 (低温成膜) 、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、ドライポンプ、発光分析システム、Q-MASS など

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県
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