スパッタ装置 ROTARIS
株式会社メディア研究所
この製品について
■特徴
・独自技術のRotating Substrate Module (RSM) を用い、最大12個のカソードを装着でき、 100mmφのカソードで、200mmφウェハに均一な成膜が可能 ・共スパッタ、DC、RFスパッタの併用など、様々スパッタリングプロセスを1つのシステムで実現 ・半導体薄膜、磁性薄膜などの極薄膜を制御可能■応用分野
・HDD：TFH (Reader/Writer) ・MRAM / STT-RAM / P-MTJ ・Sensors xMR ・Bio sensor ・MEMS-
シリーズ
スパッタ装置 ROTARIS
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取扱企業
株式会社メディア研究所
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スパッタ装置 ROTARIS 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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ROTARIS |
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