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スパッタ装置 ROTARIS-ROTARIS
スパッタ装置 ROTARIS-株式会社メディア研究所

スパッタ装置 ROTARIS
株式会社メディア研究所

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この製品について

■特徴

・独自技術のRotating Substrate Module (RSM) を用い、最大12個のカソードを装着でき、 100mmφのカソードで、200mmφウェハに均一な成膜が可能 ・共スパッタ、DC、RFスパッタの併用など、様々スパッタリングプロセスを1つのシステムで実現 ・半導体薄膜、磁性薄膜などの極薄膜を制御可能

■応用分野

・HDD：TFH (Reader/Writer) ・MRAM / STT-RAM / P-MTJ ・Sensors xMR ・Bio sensor ・MEMS

  • シリーズ

    スパッタ装置 ROTARIS

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スパッタ装置 ROTARIS 品番1件

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株式会社メディア研究所は1991年に創業し、海外メーカーとのネットワークを通じて世界最先端の技術や製品、最新の技術情報を提供する技術商社として、フィルム検査、真空・薄膜製造装置を主軸とした事業を展開しています。 取り扱...

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