全てのカテゴリ
閲覧履歴
ワークサイズ
最大φ5インチ×高さ40mm。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。
スパッタカソード
マグネトロン方式、ターゲットシャッタ
スパッタ電源
RFまたはDC
プロセスガス
Ar、O2、N2、他
ワークステージ
加熱温度:500℃ (ステージ表面) 自転:30rpm 公転:10rpm 昇降:40mmst チルト機構:±30° 基板バイアス (RFまたはDC)
真空排気
TMP+RP
圧力制御
APC制御
制御操作
制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC
データロギング
外部メモリまたはPC
ワーク取付
上蓋昇降旋回開閉式
型番
立体物用スパッタリング装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2024年12月12日にレビュー済み
顧客対応への満足度
回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。
初回対応までの時間への満足度
4.22時間
もっと見る
スパッタリング装置の製品102点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
商品画像 | 価格 (税抜) | ワークサイズ | スパッタカソード | スパッタ電源 | プロセスガス | ワークステージ | 真空排気 | 圧力制御 | 制御操作 | データロギング | ワーク取付 | オプション |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
要見積もり | 最大φ5インチ×高さ40mm。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。 | マグネトロン方式、ターゲットシャッタ | RFまたはDC | Ar、O2、N2、他 |
加熱温度:500℃ (ステージ表面) 自転:30rpm 公転:10rpm 昇降:40mmst チルト機構:±30° 基板バイアス (RFまたはDC) |
TMP+RP | APC制御 |
制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 上蓋昇降旋回開閉式 |
基板冷却 (低温成膜) 、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、ドライポンプ、発光分析システム、Q-MASS など |
スパッタリング装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途がMEMSの製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます