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ワーク
最大18L。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。
スパッタカソード
マグネトロン方式
スパッタ電源
RFまたはDC
プロセスガス
Ar、O2、N2、他
真空排気
拡散ポンプ+RP
圧力制御
APC制御
制御操作
制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC
データロギング
外部メモリまたはPC
ワーク投入/回収
上蓋開閉旋回式
型番
スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2024年12月12日にレビュー済み
顧客対応への満足度
回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。
初回対応までの時間への満足度
4.22時間
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
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返答率96%
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商品画像 | 価格 (税抜) | ワーク | スパッタカソード | スパッタ電源 | プロセスガス | 真空排気 | 圧力制御 | 制御操作 | データロギング | ワーク投入/回収 | オプション |
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要見積もり | 最大18L。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。 | マグネトロン方式 | RFまたはDC | Ar、O2、N2、他 | 拡散ポンプ+RP | APC制御 |
制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 上蓋開閉旋回式 |
加熱冷却機構、多元スパッタカソード、ターゲットシャッタ、逆スパッタ、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、クライオトラップ、発光分析システム、Q-MASS など |
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使用用途が研究開発の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800