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スパッタリング技術を応用 スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置-ジャパンクリエイト株式会社
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ジャパンクリエイト株式会社の対応状況

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ワーク

最大18L。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。

スパッタカソード

マグネトロン方式

スパッタ電源

RFまたはDC

プロセスガス

Ar、O2、N2、他

真空排気

拡散ポンプ+RP

圧力制御

APC制御

制御操作

制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC

データロギング

外部メモリまたはPC

ワーク投入/回収

上蓋開閉旋回式

この製品について

■概要

当社が得意といたします、スパッタリング技術を応用し、様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。

■特徴

・省スペース大容量 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・スクリュー型攪拌機構

■用途

・化粧品 ・電子部品 ・電池部品 ・高機能材料開発

  • 型番

    スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

企業レビュー 5.0

Metoree経由で見積もり

2024年12月12日にレビュー済み

顧客対応への満足度

回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。

初回対応までの時間への満足度

4.22時間


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スパッタリング技術を応用 スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置 スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) ワーク スパッタカソード スパッタ電源 プロセスガス 真空排気 圧力制御 制御操作 データロギング ワーク投入/回収 オプション
スパッタリング技術を応用 スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置-品番-スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置 要見積もり 最大18L。形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。 マグネトロン方式 RFまたはDC Ar、O2、N2、他 拡散ポンプ+RP APC制御 制御:PLC
操作:タッチパネルまたはPC
外部メモリまたはPC 上蓋開閉旋回式

加熱冷却機構、多元スパッタカソード、ターゲットシャッタ、逆スパッタ、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、クライオトラップ、発光分析システム、Q-MASS など


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フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

129.3時間


企業レビュー

5.0

会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県

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