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スパッタ装置 ROTARIS-株式会社メディア研究所

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この製品について

■特徴

・独自技術のRotating Substrate Module (RSM) を用い、最大12個のカソードを装着でき、 100mmφのカソードで、200mmφウェハに均一な成膜が可能 ・共スパッタ、DC、RFスパッタの併用など、様々スパッタリングプロセスを1つのシステムで実現 ・半導体薄膜、磁性薄膜などの極薄膜を制御可能

■応用分野

・HDD:TFH (Reader/Writer) ・MRAM / STT-RAM / P-MTJ ・Sensors xMR ・Bio sensor ・MEMS

  • 型番

    ROTARIS

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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会社概要

株式会社メディア研究所は1991年に創業し、海外メーカーとのネットワークを通じて世界最先端の技術や製品、最新の技術情報を提供する技術商社として、フィルム検査、真空・薄膜製造装置を主軸とした事業を展開しています。 取り扱...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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