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研究開発用小型スパッタ装置 FDS/FRS Series-株式会社FKDファクトリ

全型番で同じ値の指標

スパッタ方式

DCマグネトロンスパッタ/デポアップ

スパッタ電源

DC500V/0.8A

カソード

Φ2インチ/マグネトロンカソード

ターゲット

Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc.

真空排気系

ロータリーポンプ 162L/min

真空計

ピラニゲージ/5.0×10^-2Pa~1.0×10^5Pa

試料サイズ

最大Φ2インチ/小片試料対応可能

ガス流量調整

アルゴン用MFC/20sccm

ガス導入

1/4インチSwagelok

予備ポート

NW40×2

外形寸法

W480×D510×H440mm※突起部は含まず

設置タイプ

卓上型

使用電源

AC100V/15A 1系統

2源仕様マグネトロンカソード追加 型式

OS-2CS

2源仕様マグネトロンカソード追加 仕様

2源スパッタ化

高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 型式

OS-HVS

高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 排気速度

35L/s

高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 到達圧力

≦5×10-4Pa

高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 真空計

フルレンジゲージ

高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) ガス圧力調整

バタフライバルブ

反応性スパッタ仕様追加 型式

OS-AGS

反応性スパッタ仕様追加 ガス種

O2またはN2

反応性スパッタ仕様追加 流量

5sccm

RFスパッタ仕様追加 型式

OS-RFS

RFスパッタ仕様追加 発振周波数

13.56MHz

この製品について

基本仕様:DC1源スパッタ

■拡張オプション

・2源仕様マグネトロンカソード追加 ・高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) ・反応性スパッタ仕様 (マスフローコントローラー追加) ・RFスパッタ仕様 (RF電源:オートマッチング 追加)

  • 型番

    FDS/FRS Series

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研究開発用小型スパッタ装置 FDS/FRS Series FDS/FRS Seriesの性能表

商品画像 価格 (税抜) スパッタ方式 スパッタ電源 カソード ターゲット 真空排気系 真空計 試料サイズ ガス流量調整 ガス導入 予備ポート 外形寸法 設置タイプ 使用電源 2源仕様マグネトロンカソード追加 型式 2源仕様マグネトロンカソード追加 仕様 高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 型式 高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 排気速度 高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 到達圧力 高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) 真空計 高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) ガス圧力調整 反応性スパッタ仕様追加 型式 反応性スパッタ仕様追加 ガス種 反応性スパッタ仕様追加 流量 RFスパッタ仕様追加 型式 RFスパッタ仕様追加 発振周波数
研究開発用小型スパッタ装置 FDS/FRS Series-品番-FDS/FRS Series 要見積もり DCマグネトロンスパッタ/デポアップ DC500V/0.8A Φ2インチ/マグネトロンカソード Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ロータリーポンプ 162L/min ピラニゲージ/5.0×10^-2Pa~1.0×10^5Pa 最大Φ2インチ/小片試料対応可能 アルゴン用MFC/20sccm 1/4インチSwagelok NW40×2 W480×D510×H440mm※突起部は含まず 卓上型 AC100V/15A 1系統 OS-2CS 2源スパッタ化 OS-HVS 35L/s ≦5×10-4Pa フルレンジゲージ バタフライバルブ OS-AGS O2またはN2 5sccm OS-RFS 13.56MHz

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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