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メーカー
アルバック機工 (株)
到達圧力 (Pa) 絶対圧表記
6.6×10-4
到達圧力 (kPa) ゲージ圧表記
-101.3
排気時間
6.6×10-3Pa/5min
真空層
金属チャンバー (200mm (W) ×250mm (D) ×150mm (H) )
カソード
φ80mm、1元
基板推奨サイズ
φ80mm×t1-5mm
有効成膜範囲
50mm
成膜速度 (mm)
SiO2 成膜にて、20nm/min以上
膜厚分布
SiO2 成膜にて、50mm領域±8%以内
基板加熱温度
Max 350℃
基板/電極間距離
30~50mm (可変)
メインポンプ
油拡散ポンプ (水冷) 150L/sec
液体窒素トラップ
オプション
補助ポンプ
油回転真空ポンプ 100L/min
オイルミストトラップ
OMT-100A
メインバルブ
クラッパーバルブ
補助バルブ
三方向バルブ
自動リークバルブ
オプション
操作
手動
RF電源
Max 300W (0~300W可変)
ピラニ真空計
G-TRAN
電離真空計
オプション
最大寸法 (mm)
764 (W) × 723 (L) × 1,648 (H)
質量 (kg)
260
型番
RFS-201シリーズ
スパッタリング装置 RFS-201取扱企業
三弘エマテック株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2024年9月6日にレビュー済み
顧客対応への満足度
迅速な回答、説明があった。
初回対応までの時間への満足度
27.47時間
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スパッタリング装置の製品88点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | メーカー | 到達圧力 (Pa) 絶対圧表記 | 到達圧力 (kPa) ゲージ圧表記 | 排気時間 | 真空層 | カソード | 基板推奨サイズ | 有効成膜範囲 | 成膜速度 (mm) | 膜厚分布 | 基板加熱温度 | 基板/電極間距離 | メインポンプ | 液体窒素トラップ | 補助ポンプ | オイルミストトラップ | メインバルブ | 補助バルブ | 自動リークバルブ | 操作 | RF電源 | ピラニ真空計 | 電離真空計 | 最大寸法 (mm) | 質量 (kg) |
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要見積もり | アルバック機工 (株) | 6.6×10-4 | -101.3 | 6.6×10-3Pa/5min | 金属チャンバー (200mm (W) ×250mm (D) ×150mm (H) ) | φ80mm、1元 | φ80mm×t1-5mm | 50mm | SiO2 成膜にて、20nm/min以上 | SiO2 成膜にて、50mm領域±8%以内 | Max 350℃ | 30~50mm (可変) | 油拡散ポンプ (水冷) 150L/sec | オプション | 油回転真空ポンプ 100L/min | OMT-100A | クラッパーバルブ | 三方向バルブ | オプション | 手動 | Max 300W (0~300W可変) | G-TRAN | オプション | 764 (W) × 723 (L) × 1,648 (H) | 260 |
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